七彩虹显卡iGame480-GD5
2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 183
聚碳硅烷陶瓷前驱体的制备
陈阳1,梅雪凝2,李书宏2,
(1.中国科学院化学研究所.北京100080
徐彩虹1*,谢择民1
2.北京工商大学,北京100037)
摘要:采用Wurtz偶联方法合成了一系列主链台有si—c—C—Si蛄构的聚碳硅烷陶瓷前驱体.并对其
进行了初步的表征和热失重分析。对聚碳硅烷进行热交联处理,使陶瓷产率得到了提高。结果表明,同时
合有si—H和sicH=CH2(si—Vi)的聚碳硅烷经热解可得到相对较高的陶瓷产率。
关键词:聚碳硅烷...
2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 183
聚碳硅烷陶瓷前驱体的制备
陈阳1,梅雪凝2,李书宏2,
(1.中国科学院化学研究所.北京100080
徐彩虹1*,谢择民1
2.北京工商大学,北京100037)
摘要:采用Wurtz偶联方法合成了一系列主链台有si—c—C—Si蛄构的聚碳硅烷陶瓷前驱体.并对其
进行了初步的表征和热失重
。对聚碳硅烷进行热交联处理,使陶瓷产率得到了提高。结果表明,同时
合有si—H和sicH=CH2(si—Vi)的聚碳硅烷经热解可得到相对较高的陶瓷产率。
关键词:聚碳硅烷.Wurtz偶联.陶瓷前驱体,交联
聚合物前驱体热解转化方法制备陶瓷具有传
统陶瓷工艺无法比拟的诸多优点,因此一出现就
立即引起研究者的青睐并得到迅速发展口]。自
Verbeek[2’31和Yajiman’51开拓性的研究工作之
后,人们对采用前驱体法制备硅基非氧陶瓷进行
了大量的探索。对于SiC陶瓷前驱体的合成,最
经典的是Yajima发展的方法,即二甲基二氯硅
烷在金属钠作用下脱氯缩聚,得到聚硅烷;再经
Kumada重排,Si—Si键断裂重排生成Si—C—
Si键,转化为聚碳硅烷陶瓷前驱体。由于Ku—
mada重排需要的温度较高,一般高于400℃,
有时还需要一定的压力辅助,条件较苛刻;因
此,探索新的前驱体体系,实现相对温和条件下
聚碳硅烷的合成或转化一直是人们感兴趣的一个
课题。本实验通过Wurtz偶联方法直接合成了
主链含一Si—C—C—Si一结构的聚碳硅烷陶瓷前
驱体,采用相对简便(300℃以下,常压)的热
处理方式即可对其进行交联固化,提高陶瓷产
率。
1实验
1.1主要原料
MezHSiCI:工业品,氮气保护下蒸馏提纯;
Me:ViSiCl:自制,氮气保护下分馏提纯;氯铂
酸:自制;甲苯:AR,使用前经金属钠回流蒸
出;金属钠AR,使用前去除表面氧化层。
1.2产物表征
核磁共振分析(NMR)用BrukerWM400
型核磁共振仪;红外光谱分析(FTIR):用
PE2000型红外光谱仪,液体分析用涂膜法,固
体分析用KBr压片法;凝胶渗透色谱分析
(GPC):Waters2410型凝胶渗透色谱,甲苯做
淋洗液,流速为lmL/min;热重分析(TGA):
Perkin--Elmer型热重分析仪,在氮气气氛下进
行,升温速率10℃/rain,测量范围50~800℃;
热交联处理条件为氮气气氛下,以5℃/rain的
升温速率由室温升至热处理温度,并保持3h,
在氮气气氛下降至室温。差示扫描量热分析
(DSC):DSC822。型差示扫描量热分析仪。
1.3合成
1.3.1单体cl—Si(CH3)2一CH2一CH2一Si
(CH。)2一C1(cs)的合成
50mL的三口瓶装配恒压滴液漏斗和回流冷
凝管,高纯氮气保护下加入MezHSiCI5mL
(o.041m01)、催化剂量的氯铂酸催化剂;室温
搅拌下缓慢滴加Me。ViSiCl5mL(0.036m01),
滴加过程中油浴逐渐升温至40℃,全部滴加完
毕后逐渐升温至80℃,再反应4h。除去过量的
Me。HSiCl,得到淡棕黄色透明液体产物,室温
下为固体。(熔35~38℃)
1HNMR(CDCl,):0.82(S,4H,CH2),
0.42(S,12H,Si—CH。)。
1.3.2聚碳硅烷(PCS)的合成
100mL的三口瓶装配恒压滴液漏斗和回流
冷凝管,高纯氮气保护下加入40mL干燥甲苯和
金属钠,搅拌回流,制备钠砂;此时钠被充分分
通讯联系人(010)62554487,E—radii:caihong@iccas.
a‘Ca]a
184 2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集
散,回流下逐滴加入混合氯硅烷的甲苯溶液;滴
加完毕后回流40h。反应完毕,逐渐冷却至室温
后干燥,得白色固体粉末(A组产物);滤液减
压除溶剂后得淡黄色粘稠液体(B组产物)。表
后撤去氮气保护,过滤,不溶物经乙醇和水处理 1列出了原料配比及产物编号。
表l原料配比及产物编号
2结果与讨论
2.1液体产物的GPC分析
采用Wurtz偶联方法可得到两部分产物,
一部分为淡黄色有一定粘度的液体产物,另一部
分为白色固体产物。利用GPC测得液体产物的
摩尔质量及其分布,结果见表2。
表2液体产物的GPC数据
2.2 FT—IR分析
B组产物的FT—IR分析结果见图l。图l
中,2950、2900cm_1处为饱和C—H的伸缩振
动吸收峰;1400cm叫为si—CH。中c—H的变
形振动吸收峰;1260cm_1为Si—CH。中CH。的
变形振动吸收峰;830~690cm。为Si—C伸缩
振动吸收峰“]。1050cm_1处为一Si—CH。一
CH。一Si一的特征吸收峰”],证明合成的PCS中
含有一sicH2一cH:一si一结构。此外,含乙
+烯基的产物Pvi和PHVi中还包含3040cm-1这
一si—Vi的特征峰,PH和PHVi产物中则出现
2107cml这一si—H特征吸收峰。A组产物与
B组产物的IR谱图相比,主要特征峰基本一致,
区别仅在于A组的IR谱图在3420cm。处多了
PH—B
PVi—B
PViH—B
4ND35【)0300025002000150010()0500 0
波数几ut“
图l B组产物的FT—lR结果
一个明显的一OH吸收峰。除去粉末红外分析的
制样方法一溴化钾压片法所带来的水这一影响因
素外,另一个原因可能是A组产物在处理时采
用了醇和水,步量未反应的端基si—cl水解生
成了Si—OH。
2.3 TGA分析
分别对各组产物进行了TGA分析,结果见
表3和图2、图3。
袅3各产物的TGA数据
样品编号 陶瓷产物/%
PH—A
Pvi—A
PViH—A
PH—B
PVi—B
PViH—B
PVi—C
PViH—C
PVi+PH—C
3.79
38.5
51.53
2,87
6.43
23.86
32.46
52.05
59.36
从TGA结果可以看到,单纯引入si—H或
Si—Vi活性基团,在不经任何热处理的情况下,
只能得到很低的烧蚀残重。A、B两组比较,A
组产物由于交联程度较高、摩尔质量较大,因此
残重也较高,尤其是在400℃以前的低温段,A
组产物失重较小,这一特征也说明A组产物包
含的低沸点小分子物及挥发性低分子量组分较
少;但高于400X2发生si—c键断裂带来的失重
2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 185
不可避免。为了减少这一失重,我们同时引人~
SiVi和一SIH合成了PViH,希望通过多种活性
基团的相互作用,得到更好的交联程度,在一定
程度上抑制si—c键断裂生成小分子产物引起的
失重。从TGA结果可以看出,与PH和PVi相
比,PViH的陶瓷产率有所提高。
啦
j
9
旨
温度/℃
圈2 A组产物的TGA结果
A
0 1002003004N)500600700㈣900
温世代
图3 B组及部分交联处理后产物的TGA结果
从材料的加工性能及陶瓷应用的角度来考
虑,希望可溶并有一定流动性的B组产物能够
有较高的烧蚀残重。由于PCS中含有sivi及
一siH等活性基团,可以利用这些活性基团的反
应性·通过热处理使其进一步交联固化,进而提
高陶瓷产率。通过对B组部分产物的DSC分析
对热处理条件进行了相应的选择,结果见图4。
n 50 I[)()1502(的250300350400。,·
温度,。c
圈4部分产物的DSC结果
P
B
从图4中可以看到,PVi—B在200℃左右
开始固化,交联温度范围很宽,至300℃仍固化
不完全;而加入质量分数为1%的过氧化二异丙
苯(DCP)之后,PVi—B的起始固化温度明显
降低,约130℃,且固化温度范围变窄,到
200℃基本固化完全。主要的交联反应为式1所
示的乙烯基自聚。而对于PViH—B,DSC显示
其在260V附近有明显的交联放热峰,因此也可
对PViHB进行进一步的热交联处理。此时发
生的交联反应除乙烯基自聚以外,还应存在si
—H之间的脱氢反应(式2所示)以及si—vi
和si—H之间的加成反应(式3所示)。此外,
将PVi和PH等质量混合后进行DSC分析,其
交联放热峰也在270℃附近。根据这些实验结
果,分别将PVi+l%DCP、PViH以及PVi+
PH在160℃、240℃、250℃进行热处理,得到的
产物分别为PVi—C、PViH—C和PVi+PH—
c,其TGA分析结果见表3和图3。从这些数据
可以看出,经过适当的热处理,陶瓷产率均得到
明显提高。与Yajima采用的Kumada重排处理
方式相比,此法的热处理温度较低且在常压下即
可满足要求。
CHz=CH⋯Si=ECH。一CH2(--Si=)]。
iSi—H+H—Sil—SiSi=+H2Si—H十CH2=CH—SiE—SiCH2~CHSi=
3结论
采用Wurtz偶联方法合成了一系列主链含
(1)
(2)
(3)
有Si~C—c—sl结构的聚碳硅烷,通过GPC,
FT—IR等手段进行了初步的表征,并利用
枣j骘。每
186 2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集
TGA对其热交联前后的产物进行了热失重分析。
结果表明,在常压,300℃以下进行热处理,即
可使聚碳硅烷获得较好的交联;并且同时含有
si—H和si—vi两种活性基团的聚碳硅烷热解
可得到相对较高的陶瓷产率。
参考文献
1陈朝辉.先驱体结构陶瓷.长沙:国防科技大学出
版社,2003.5
2 WinterG。VerbeekW,MansmannM.DE2243527.
1972
3 VerbeelkW,WinterGDE2236078.1974
4 YajimaS,HayashiJ,OmoriM.JP7550223.1975
5 YajimaS,Hayashi』,OkamuraK.Nature,1976
261:683
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1980.15:720
7 SchimdtWR,InterranteLV.DoremusRH,eta1.
ChemMater,1997.3:25
Synthesisofpolycarbmilaneceramicp辟cu幅。噶
MELXue—rfingL1Shu—hongXVCou—hong,XIE1e—min
CHENYan91,Meixuenin92,LiShuhon酽,XuCaihong“.XieZeminl
(1 InstituteofChemistor。ChineseAcademyofSciences,Bering100080.China
2.BeijingTechnologyandBusinessUniversity,Beijing100037,China)
Abstract:AseriesofpolycarbosilanescontainingSi—C~C—Silinkagesintheirbackboneshavebeenpreparedby
Wurtz--couplingreactionandcharacterizedbyGPC.FT一1RandTGA.Inordertoimprovetheirceramicyield,they
havebeentreatedbyheatingatcross--linkingtemperatureundernitrogen.TheresultsshowthatprecursorswithbothSi
HandSi—VihavebetterceramlcyleId.
Keywords:polycarbosilane,Wurtz—coupling,ceramicprecursortcrosslinking
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