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七彩虹显卡iGame480-GD5

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七彩虹显卡iGame480-GD5 2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 183 聚碳硅烷陶瓷前驱体的制备 陈阳1,梅雪凝2,李书宏2, (1.中国科学院化学研究所.北京100080 徐彩虹1*,谢择民1 2.北京工商大学,北京100037) 摘要:采用Wurtz偶联方法合成了一系列主链台有si—c—C—Si蛄构的聚碳硅烷陶瓷前驱体.并对其 进行了初步的表征和热失重分析。对聚碳硅烷进行热交联处理,使陶瓷产率得到了提高。结果表明,同时 合有si—H和sicH=CH2(si—Vi)的聚碳硅烷经热解可得到相对较高的陶瓷产率。 关键词:聚碳硅烷...
七彩虹显卡iGame480-GD5
2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 183 聚碳硅烷陶瓷前驱体的制备 陈阳1,梅雪凝2,李书宏2, (1.中国科学院化学研究所.北京100080 徐彩虹1*,谢择民1 2.北京工商大学,北京100037) 摘要:采用Wurtz偶联方法合成了一系列主链台有si—c—C—Si蛄构的聚碳硅烷陶瓷前驱体.并对其 进行了初步的表征和热失重。对聚碳硅烷进行热交联处理,使陶瓷产率得到了提高。结果表明,同时 合有si—H和sicH=CH2(si—Vi)的聚碳硅烷经热解可得到相对较高的陶瓷产率。 关键词:聚碳硅烷.Wurtz偶联.陶瓷前驱体,交联 聚合物前驱体热解转化方法制备陶瓷具有传 统陶瓷工艺无法比拟的诸多优点,因此一出现就 立即引起研究者的青睐并得到迅速发展口]。自 Verbeek[2’31和Yajiman’51开拓性的研究工作之 后,人们对采用前驱体法制备硅基非氧陶瓷进行 了大量的探索。对于SiC陶瓷前驱体的合成,最 经典的是Yajima发展的方法,即二甲基二氯硅 烷在金属钠作用下脱氯缩聚,得到聚硅烷;再经 Kumada重排,Si—Si键断裂重排生成Si—C— Si键,转化为聚碳硅烷陶瓷前驱体。由于Ku— mada重排需要的温度较高,一般高于400℃, 有时还需要一定的压力辅助,条件较苛刻;因 此,探索新的前驱体体系,实现相对温和条件下 聚碳硅烷的合成或转化一直是人们感兴趣的一个 课题。本实验通过Wurtz偶联方法直接合成了 主链含一Si—C—C—Si一结构的聚碳硅烷陶瓷前 驱体,采用相对简便(300℃以下,常压)的热 处理方式即可对其进行交联固化,提高陶瓷产 率。 1实验 1.1主要原料 MezHSiCI:工业品,氮气保护下蒸馏提纯; Me:ViSiCl:自制,氮气保护下分馏提纯;氯铂 酸:自制;甲苯:AR,使用前经金属钠回流蒸 出;金属钠AR,使用前去除表面氧化层。 1.2产物表征 核磁共振分析(NMR)用BrukerWM400 型核磁共振仪;红外光谱分析(FTIR):用 PE2000型红外光谱仪,液体分析用涂膜法,固 体分析用KBr压片法;凝胶渗透色谱分析 (GPC):Waters2410型凝胶渗透色谱,甲苯做 淋洗液,流速为lmL/min;热重分析(TGA): Perkin--Elmer型热重分析仪,在氮气气氛下进 行,升温速率10℃/rain,测量范围50~800℃; 热交联处理条件为氮气气氛下,以5℃/rain的 升温速率由室温升至热处理温度,并保持3h, 在氮气气氛下降至室温。差示扫描量热分析 (DSC):DSC822。型差示扫描量热分析仪。 1.3合成 1.3.1单体cl—Si(CH3)2一CH2一CH2一Si (CH。)2一C1(cs)的合成 50mL的三口瓶装配恒压滴液漏斗和回流冷 凝管,高纯氮气保护下加入MezHSiCI5mL (o.041m01)、催化剂量的氯铂酸催化剂;室温 搅拌下缓慢滴加Me。ViSiCl5mL(0.036m01), 滴加过程中油浴逐渐升温至40℃,全部滴加完 毕后逐渐升温至80℃,再反应4h。除去过量的 Me。HSiCl,得到淡棕黄色透明液体产物,室温 下为固体。(熔35~38℃) 1HNMR(CDCl,):0.82(S,4H,CH2), 0.42(S,12H,Si—CH。)。 1.3.2聚碳硅烷(PCS)的合成 100mL的三口瓶装配恒压滴液漏斗和回流 冷凝管,高纯氮气保护下加入40mL干燥甲苯和 金属钠,搅拌回流,制备钠砂;此时钠被充分分 通讯联系人(010)62554487,E—radii:caihong@iccas. a‘Ca]a 184 2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 散,回流下逐滴加入混合氯硅烷的甲苯溶液;滴 加完毕后回流40h。反应完毕,逐渐冷却至室温 后干燥,得白色固体粉末(A组产物);滤液减 压除溶剂后得淡黄色粘稠液体(B组产物)。表 后撤去氮气保护,过滤,不溶物经乙醇和水处理 1列出了原料配比及产物编号。 表l原料配比及产物编号 2结果与讨论 2.1液体产物的GPC分析 采用Wurtz偶联方法可得到两部分产物, 一部分为淡黄色有一定粘度的液体产物,另一部 分为白色固体产物。利用GPC测得液体产物的 摩尔质量及其分布,结果见表2。 表2液体产物的GPC数据 2.2 FT—IR分析 B组产物的FT—IR分析结果见图l。图l 中,2950、2900cm_1处为饱和C—H的伸缩振 动吸收峰;1400cm叫为si—CH。中c—H的变 形振动吸收峰;1260cm_1为Si—CH。中CH。的 变形振动吸收峰;830~690cm。为Si—C伸缩 振动吸收峰“]。1050cm_1处为一Si—CH。一 CH。一Si一的特征吸收峰”],证明合成的PCS中 含有一sicH2一cH:一si一结构。此外,含乙 +烯基的产物Pvi和PHVi中还包含3040cm-1这 一si—Vi的特征峰,PH和PHVi产物中则出现 2107cml这一si—H特征吸收峰。A组产物与 B组产物的IR谱图相比,主要特征峰基本一致, 区别仅在于A组的IR谱图在3420cm。处多了 PH—B PVi—B PViH—B 4ND35【)0300025002000150010()0500 0 波数几ut“ 图l B组产物的FT—lR结果 一个明显的一OH吸收峰。除去粉末红外分析的 制样方法一溴化钾压片法所带来的水这一影响因 素外,另一个原因可能是A组产物在处理时采 用了醇和水,步量未反应的端基si—cl水解生 成了Si—OH。 2.3 TGA分析 分别对各组产物进行了TGA分析,结果见 表3和图2、图3。 袅3各产物的TGA数据 样品编号 陶瓷产物/% PH—A Pvi—A PViH—A PH—B PVi—B PViH—B PVi—C PViH—C PVi+PH—C 3.79 38.5 51.53 2,87 6.43 23.86 32.46 52.05 59.36 从TGA结果可以看到,单纯引入si—H或 Si—Vi活性基团,在不经任何热处理的情况下, 只能得到很低的烧蚀残重。A、B两组比较,A 组产物由于交联程度较高、摩尔质量较大,因此 残重也较高,尤其是在400℃以前的低温段,A 组产物失重较小,这一特征也说明A组产物包 含的低沸点小分子物及挥发性低分子量组分较 少;但高于400X2发生si—c键断裂带来的失重 2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 185 不可避免。为了减少这一失重,我们同时引人~ SiVi和一SIH合成了PViH,希望通过多种活性 基团的相互作用,得到更好的交联程度,在一定 程度上抑制si—c键断裂生成小分子产物引起的 失重。从TGA结果可以看出,与PH和PVi相 比,PViH的陶瓷产率有所提高。 啦 j 9 旨 温度/℃ 圈2 A组产物的TGA结果 A 0 1002003004N)500600700㈣900 温世代 图3 B组及部分交联处理后产物的TGA结果 从材料的加工性能及陶瓷应用的角度来考 虑,希望可溶并有一定流动性的B组产物能够 有较高的烧蚀残重。由于PCS中含有sivi及 一siH等活性基团,可以利用这些活性基团的反 应性·通过热处理使其进一步交联固化,进而提 高陶瓷产率。通过对B组部分产物的DSC分析 对热处理条件进行了相应的选择,结果见图4。 n 50 I[)()1502(的250300350400。,· 温度,。c 圈4部分产物的DSC结果 P B 从图4中可以看到,PVi—B在200℃左右 开始固化,交联温度范围很宽,至300℃仍固化 不完全;而加入质量分数为1%的过氧化二异丙 苯(DCP)之后,PVi—B的起始固化温度明显 降低,约130℃,且固化温度范围变窄,到 200℃基本固化完全。主要的交联反应为式1所 示的乙烯基自聚。而对于PViH—B,DSC显示 其在260V附近有明显的交联放热峰,因此也可 对PViHB进行进一步的热交联处理。此时发 生的交联反应除乙烯基自聚以外,还应存在si —H之间的脱氢反应(式2所示)以及si—vi 和si—H之间的加成反应(式3所示)。此外, 将PVi和PH等质量混合后进行DSC分析,其 交联放热峰也在270℃附近。根据这些实验结 果,分别将PVi+l%DCP、PViH以及PVi+ PH在160℃、240℃、250℃进行热处理,得到的 产物分别为PVi—C、PViH—C和PVi+PH— c,其TGA分析结果见表3和图3。从这些数据 可以看出,经过适当的热处理,陶瓷产率均得到 明显提高。与Yajima采用的Kumada重排处理 方式相比,此法的热处理温度较低且在常压下即 可满足要求。 CHz=CH⋯Si=ECH。一CH2(--Si=)]。 iSi—H+H—Sil—SiSi=+H2Si—H十CH2=CH—SiE—SiCH2~CHSi= 3结论 采用Wurtz偶联方法合成了一系列主链含 (1) (2) (3) 有Si~C—c—sl结构的聚碳硅烷,通过GPC, FT—IR等手段进行了初步的表征,并利用 枣j骘。每 186 2006年第十三届中国有机硅学术交流会论文集 TGA对其热交联前后的产物进行了热失重分析。 结果表明,在常压,300℃以下进行热处理,即 可使聚碳硅烷获得较好的交联;并且同时含有 si—H和si—vi两种活性基团的聚碳硅烷热解 可得到相对较高的陶瓷产率。 参考文献 1陈朝辉.先驱体结构陶瓷.长沙:国防科技大学出 版社,2003.5 2 WinterG。VerbeekW,MansmannM.DE2243527. 1972 3 VerbeelkW,WinterGDE2236078.1974 4 YajimaS,HayashiJ,OmoriM.JP7550223.1975 5 YajimaS,Hayashi』,OkamuraK.Nature,1976 261:683 6 HasegawaY,limuraM.YajimaS.JMaterSci 1980.15:720 7 SchimdtWR,InterranteLV.DoremusRH,eta1. ChemMater,1997.3:25 Synthesisofpolycarbmilaneceramicp辟cu幅。噶 MELXue—rfingL1Shu—hongXVCou—hong,XIE1e—min CHENYan91,Meixuenin92,LiShuhon酽,XuCaihong“.XieZeminl (1 InstituteofChemistor。ChineseAcademyofSciences,Bering100080.China 2.BeijingTechnologyandBusinessUniversity,Beijing100037,China) Abstract:AseriesofpolycarbosilanescontainingSi—C~C—Silinkagesintheirbackboneshavebeenpreparedby Wurtz--couplingreactionandcharacterizedbyGPC.FT一1RandTGA.Inordertoimprovetheirceramicyield,they havebeentreatedbyheatingatcross--linkingtemperatureundernitrogen.TheresultsshowthatprecursorswithbothSi HandSi—VihavebetterceramlcyleId. Keywords:polycarbosilane,Wurtz—coupling,ceramicprecursortcrosslinking
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