施密特系统探讨与分析
施密特系统探讨与分析 第23卷第6期
2006年l1月
量子电子
CHINESEJOURNALOFQUANTUMELECTRONICS V01.23NO.6
NOV.2006
文章编号:1007—5461(2006)06—0783—05
施密特系统探讨与分析
郝沛明,潘宝珠,李红光,李玮玮
(1同济大学物理系非球面光学实验室,上海200433
2南通大学物理系,江苏南通226007)
摘要:施密特系统历史悠久,过去从三级象差理论得到的校正板方程式,也一直被人们所认同,但是此方
程经光学设计软件验证后,发现a?1/2ro2,其中ro2为校正板的顶点曲率半径,ES1?0,系统的焦距和后
截距也有一定的偏差,与三级像差理论不符.经过分析,发现原来从三级像差理论推导出的校正板方程式没有
考虑到离焦后焦距的变化.实际上离焦后的焦距为,?=,+A.按三级像差理论重新推导可以得到新的施密
特校正板方程式.由光学设计软件验证,得到a=1/2ro2,ES1=0,这与三级像差理论相符合,说明新的施密
特校正板方程式是正确的.
关键词:几何光学;校正板方程;施密特系统;三级像差理论
中图分类号:0435.2文献标识码:A
1引言
施密特(Schmidt)系统历史悠久,长期为人们所认同它可以用作天文望远物镜以及
大屏幕投影电视
等的一些成像系统,有着重要的应用价值.前人也曾经提出了施密特校正板的方程
式[,但是存在一定
的误差.我们根据三级像差理论对施密特校正板的方程式进行了改进,从方程式得
出的校正板顶点曲率半
径与通过高斯公式得出的校正板顶点曲率半径符合良好,使初始参数精度得到了
极大的提高,这为以后的
设计提供了良好的理论基础
2像差理论
光学系统表示在图1,三级像差理论给出的单色像差的表示式为[.,.]
其中
S1=EhP+EhK,
s2=EyP—JEW+Eh.,
s3=?y2P
一2?+.E~+Eh..,
:?,
=
?y3
P-3JE
~gr+J2Eh(3+)一.?去?1+Ehya
C1=Eh./,
C2=Eyh/,
P=().(
收稿日期:200508—17;修改日期:2005—10—08 E-mail:panbaozhu@ntu.edu.cn ()(一),?=
(1)
784量子电子23卷
=
1
I,Ut一),K-一,=z?=zu,
设定:
1)物体位于无限远处,即ll?,Ul=0.
2)第1面为平面r1--+?,光阑位于校正板1上,校正板的非球面位于第2面上,即主光线的高度
Y2=0,并且位于反射镜M2的球心0上,有关规化参数为
n=-1,hi=h2=h3=1,Ul=u=U2=0, I厂=一1,尸1=0,1=K3=0,
其中n表示校正板的折射率,h表示光线的入射高度,f表示光线与光轴的交点离开镜面顶点的距离,称
为截距;u为光线和光轴的夹角,I厂表示系统的焦距,有撇和无撇的参数表示光线通过镜面前,后的相
关参数.
3)按近轴公式[1
4)色差暂不考虑.
将以上设定条件代入到各像差系数中,计算后可得各像差系数为S2=S3=S5=0,S1
?0,S4?0,下
面就用求解的校正板方程来校正反射镜M2的球差.
\/\OFF,/P
/
Fig.1ThefigureofSchmidtsystem 3施密特校正板顶点曲率半径/'02的求解
Fig.2Thecurvesoftheequation 设离焦量为A=?.I厂,?为?的规化值,离焦后保持规化的孔径角U3?=一1不变,按近轴公式[1
u?=-1,f?=,一?=A一1,h3A=1一A,/'3=一2,d23=一r3=2, 拿=爰一,=1一1,1=1一,f3?=1-厂A,
=
f3?+d23=I+A
,U3~--
h3A
=?=u?,2?=f2A"U?=l+?, :堕l'一'f.2??,=,.=.
2a
n2u2:O,1-n
r02/2A17'02十
离焦后的焦距,?,入射高度h2?和旌密特校正板顶点曲率半径r02为
,?=hi__(1_,(1(1'r0==.(2)
【
=
3
n
=
,
23
nU
==
1,2nU
第6期郝沛明等:施密特系统探讨与分析785
4离焦量的选择
在求解施密特校正板之前认为它是平行平板,系统的球差是球面反射镜生成的,现
在来求解球面反射
镜生成的球差
(斋)(蔫一老)番=摹=r丝f2,]r\堡8f]札(筹). 球差LA为
LAt-S13
=
筹=摹,=譬,=簧,.(3)
从(3)式可以看出:球差与相对孔径A.和焦距,成正比.在h=1,,=1规化的条件下,相对孔径=2/1,
得出规化的球差为LA=1/8,离焦量0A42/32,A的选择与中性带h:有关,A的选择表示为
?=()簧=.簧,2=(),
其中表示规划后中性带的高度.如果不以近轴光线的焦点为焦点,而是有一个离焦量,则离焦后系统的
=,(1+?),则离焦后球差可以表示为 焦距变为,?
=
系,一?,?=,(=,一蛆(4)
波像差为[2]
?)城=,一=,-
设定系统的波面像差为W=?=0,九?=Y,求解施密特校正板的数学表示式 =
.,=(n一1),?=I+%=(n一1)+4一A2=.,
:
2
一丽一一面而'
对公式(5)进行光线追迹证实,?S1=0,说明推导的公式?5是正确的. 5施密特系统设计
经典的施密特校正板的数学表达式为
=一.
按公式(5),规化的施密特校正板的数学表示式为
研1
保持札?=一1不变,在相对孔径A=2/1,焦距,?=一(1+?),光线入射高度h2?=1+?时,规化的施
密特校正板的曲线如图2所示.按公式(7)就可以进行施密特光学系统设计.设计步骤为:
,
8
厂.
1—2
=
讼
小
A
L
厂
.
?一2
=
%
786量子电子23卷
1)选择施密特校正板的光学材料K9玻璃,折射率nd=1.5163; 2)按设计要求的施密特光学系统的相对孔径.{,确定离焦量?的范围和Q,由Q选择校正板的中性带
^:
.?()嵩=Q,Q2=();
3)按(2)式求解施密特校正板的顶点曲率半径ro.和离焦旨的焦距,?=f+A,反射镜的曲率半径
r3一2:
4)按(7)式求解施密特校正板方程式的二次项系数a和四次项系数6; 5)按求解的施密特校正板方程式进行光学系统设计,像差平衡和优化自动设计,满足边缘带球差,'
0:
6)按实际焦距进行缩放,再进行像差平衡,根据要求的各种相对13径设计系统. 6举例
施密特系统的相对孔径=2/1,1.5/1,1/1,1/1.2,1/1.5,=0,0.5,0.7,0.85,1,玻璃材料的折射率nd:
1.5163,激光束波长A=589.3nm,将(6)式和(7)式在规化的条件下进行对比,按施密特系统的设计步骤求
出初始数据,代入到光学设计软件ZEMAX中,得到新的校正板方程的球差系数ZS1=0,说明校正板方
程是正确的.(6)式和(7)式在ZEMAX中的初始球差值S1,Si比较如表1所示. Table1Measurementfrequencyandaccuracy 42/11.5/11/11/1.5
S1(经典)一0.056489—0.010614——0.000959—0.000088 S1f新)0.000330一O.000076一O.0000060.000000 利用ZEMAX将边缘带的球差校正到零,得到球差曲线图3(a),0.7带的剩余球差7随相对孔径
的变化曲线图3(b),优化前后校正板方程四次项系数随相对孔径的的变化曲线图3(c);利用ZEMAX将施
密特系统首先优化到四次项,然旨再优化到四次项和六次项,最后优化到四次项,六次项和八次项,得到
球差曲线如图3(d)所示.
.
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…
q:11(1Dnmar,
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r一-一.-I=ll5primar,; 0.25?A=l『1_1.0c
c
.
orrcCl
0.()0l5."?
一
10I2,
34
LA×10'
Fig.3(a)Thecurvesof h/h^一』
Fig.3(b)Thecurvesof A7^一4
0.4081.2I620
A
Fig.3(c)Thecurvesof -4.3—2一10
LA,×10'!
Fig.3(d)Thecurvesof b,Ah/hLA
这样,就得到了各个参数在不同情况下的变化曲线.通过分析曲线,可以看出,优化
到四次项的施密
特系统,随着相对口径的增大,残余球差7也逐渐变大,并且优化前后校正板四次项
系数的差值也逐
渐变大,这是由轴外高级像差引起的【引. 7结论
施密特系统的焦距与离轴量有关,且离轴量是系统相对孔径和中性带的函数.以上
根据三级像差理论
第6期郝沛明等:施密特系统探讨与分析787
对施密特校正板的方程式进行了改进,得出了不同相对孔径和中性带下各参数的变化曲线.
此方程的改进
不但使初始参数精度得到了极大的提高,而且易于达到最佳设计结果,这对于施密特系统的设计与加工是
非常有益的.
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DiscussionandanalysisofSchmidtsystem HAOPei—ruingI,PANBao—zhu,LIHong-guang,LIWwei (ILaboratoryofAsphericOptics,DepartmentofPhysics,TongjiUniversity,Shanghai20043
3,China
2DepartmentofPhysics,NantongUniversity,Nantong226007,China)
Abstract:ItiswellknownthatSchmidtsystemisafamousopticalsystem.Theequationof thecorrectorplatewhichwasbasedonthethird—orderaberrationtheoDrwasapprovedfora
longtime.WhenweconfirmedthepreviousequationwithopticaldesignprogramZEMAX,we
foundthecoefficientoftheequationa?1/2r0~,whereto2wastheradiusofthecorrectorplate vertex,andES1?0,thefocallengthfandthebackfocallength^ofSchmidtsystemalso hadsomedeviation,anddidn'tcoincidewiththethird—orderaberrationtheory.Accordingto
analysis,thecauseoftheerrorswasthatthepreviousequationdidn'tcontainthevariation ofthefocallengthafterdefocusA.Thefocallengthafterdefocusshouldbe{=f+A. Fromthethird—orderaberrationtheory,substitutingfwithlincalculation,wegotanew equationofthecorrectorplate.Again,whenweconfirmedthenewequationwithoptical designprogramZEMAX,wecoulddeducethatthecoefficienta=1/2r0~,andES1=0,which accordedwiththird—orderaberrationtheory.
Keywords:geometricoptics;equationofthecorrectorplate;Schmidtsystem;third—order
aberrationtheory
作者简介:郝沛明(1940一),男,研究员.1963年毕业于长春光机学院,先后在中国科
学院长春光机所.成都光电技术所.安徽
光机所和同济大学工作,一直从事非球面的光学设计.加工.测量和检验工作,曾获
得一项国家发明二等奖和多项国防科工委和中国科学院
的重大成果一等奖.