电子工业超纯水水质标准

电子工业超纯水水质化学指标单位：卩g/L美国半导体工业用纯水指标项目I级H级山级W级残渣，mg/L0.10.30.30.5TOC,mg/L0.020.050.100.40颗粒，粒/L500100025005000细菌数，个100mL061050活性硅SiO2，卩g/L351040电阻率Mcm18.317.917.517.0阳离子，卩g/L0.22.05.0*铝AI3+0.22.05.0*铵NH4+0.30.30.5*铬Cr6+0.020.10.5*铁Fe3+0.020.10.2*铜Cu2+0.020.10.5*锰Mn2+0.050.51.0*钾K+0.10.31.04.0钠Na+0.050.21.05.0锌Zn2+0.030.10.5*阴离子，卩g/L0.10.10.3*溴Br-0.10.10.3*氯Cl-0.050.20.8*亚硝酸根NO2-0.050.10.3*硝酸根NO3-0.10.10.5*磷酸根PO43-0.20.20.3*硫酸根SO42-0.050.31.0**此值未定。我国电子工业部高纯水水质试行标准化学指标单位：卩g/L序号水质项目一级咼纯水指标二级高纯水指标1电阻率（25°C）Mcm>15>102电导率，卩s/cm0.050.13PH值6.8〜7.26.6〜7.44细菌总数，个/mLV3V95微粒（直径〉0.5卩m，粒/mL）V150V3006二氧化硅V10V207有机物（以COD计）V0.3V0.58钠NaV0.5V29铁FeV1V210铜CuV0.5V111钙CaV1V312镁MgV0.2V113锌ZnV0.5V114锰MnV0.2V0.5说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品②二级高纯水适用于一般电路，分立器件以及有相同要求的半导体器件产品③本表按1980年电子工业部标准摘录。