macleod软件说明

工具·EssentialMacleod包含大量的工具。主要有：(1)Core:编辑器,数据、目标等编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合(Refinementandsynthesis),输出到ZEMAX,导纳轨迹(Admittanceloci),电场,辅助设计，(2)vStack:vStack编辑器,vStack性能计算-计算非平面平行(non-parallel-sided)基底和薄膜性能，(3)Runsheet:机器配置和(MachineConfiguration)Runsheet编辑器，（4）Monitorlink:特殊的Runsheet配置，输出监控程序，与特定控制器连接的工具(Freestandingtool)，（5）Function:操作编辑器(Operationeditor)和语法检查程序(syntaxchecker),函数求值程序(Functionevaluator)，（6）Simulator:沉积过程模拟器(Processdepositionsimulator)，（7）DWDMAssistant:带通滤波器设计(bandpassfilterdesigns)。.dds:设计文件.npl:绘图文件.tbl:格文件.moc:光学数据.dst:堆(stack)文件.np3:3维绘图文件.pmx：pmx文件File介绍－New…（1)Design：弹出带有缺省设计的设计窗口(2)Material：弹出一个建立新材料的表格窗口，可以输入光学常数和波长等数据，(3)OpticalConstant：通过输入的数据得到反射率和透过率曲线，(4)Table：建立一个只读空白表格，栏目自定义，(5)Stack：打开基底和膜层合并的设计和分析的文本窗口，(6)vStack：打开不平行基底和膜层合并的设计和分析的文本窗口，(7)Substrate：建立材料内透过率的表格。·Open:打开已经有的薄膜文件，·OpenMaterial：列出所有可以选择的材料，·OpenSubstrate：打开基底文件，表格中显示不同波长的内透过率或密度，·OpenReference：打开参考文件。参考文件包含如颜色评介方面所需要的数据··Materials：打开材料数据表，双击表中任何一个材料，都会弹出这个材料的波长和折射率数据，·LoadZEMAXCoatingFile：其数据可以与zemax交互使用，Options介绍－－General(1)DataSources：上面的是当前材料文件夹的路径；下面是参考文件夹的路径。(2)Windows：选择CascadingClose时，当一个设计窗口关闭时，相关的图表窗口都一起关闭；当选择PrompttosaveoldTablesandPlotsbeforeclosingbox时，会在关闭图表前提示是否存盘。选择KeepoldPlotsandTablesdisplayed时，打开新的设计时，原来设计的图表仍然存在。·Plotting图形坐标轴和绘图的定制。Cone·控制StackEditor提供的cone计算，NominalConeSegmentLength：计算特定波长、频率和入射角时的cone响应时，控制Cone用的适应计算。与NominalPlotSegmentLength类似。·BandwidthStep：带宽不为0时，控制步长，·GaussianCalculationScaleFactor：缺省值是2，此时，光束的强度降为轴上的0.0003倍，对大多数的情况可以了，越大，计算越久。Design控制显示的膜层顺序和计算公式顺序等ChartStyleChartStyles:定义绘图数据的风格。包括颜色、线型等GeneralUnits定义各种量的单位。DESIGNWINDOW设计窗口·选择new>>design进入设计窗口(整个主菜单相应变了)：·(在file>>displaysetup中设置此表格的显示栏目)膜层编辑－Formula·Formula可以用简化符号编辑薄膜，特别是输入膜层数据很方便。用符号：H,L,A,B,c,d等表示。·膜层厚度表示为基本厚度(basicthickness)的积，如2.5Hor0.4L(如果基本厚度为0.25，则分别表示2.5*0.25=0.625fullwaves和0.4*0.25=0.1fullwaves)。·符号可以表示成一个简单的序列或重复的序列，如：(HL)^63.4H2.1L或((H1.2L2B)^2HL)^3(LBH)^2。Formula窗口GenerateRugate…·用这个命令容易生成一个有皱褶膜(rugatecoatings)模型。·用大量的分离的变化的折射率层模拟皱褶膜的连续变化的折射率。折射率的变化用改变每层的packingdensity来实现。·GenerateRugate命令可以容易地指定折射率变化，并且控制模拟皱褶结构的层的数目。膜层厚度(thickness)·可以是光学的(optical),几何的(geometrical),物理的(physical)或QWOT。·(1)物理厚度：按物理单位(通常是nm)测量的。这种厚度可以转换为晶振监控规格，或溅射线上的沉积时间，·(2)光学厚度：物理厚度乘以材料的折射率，即光程，再除以参考波长。光学厚度乘以2p就是位相厚度(单位为弧度)。常用光学厚度，·(3)QWOT厚度：其数值为4倍光学厚度，·(4)几何厚度：物理厚度除以波长。光学厚度->物理厚度ScaleThicknesses...·偶尔有某些材料的厚度要按同样的方法改变。·当研究不均匀性时，或需要对通或禁带进行微调时，经常要这样做。·有时候要保持特殊参考波长的值，但要将所有膜层厚度按同样的比例改变。都可以用这个命令容易实现。MatchAngle...设计时光线都是垂直入射的，但如果是倾斜的，则需要调整相应的薄膜厚度。此命令可以自动调整这个厚度。GlobalEdit…·改变设计中的所有膜层或只改变所选择的膜层。EditMaterials...Performance设置绘图的参数。3DPerformance...·定义3D坐标轴。PlotOver·将同个设计的多根曲线画在一起。·将不同设计结果的曲线画在一起Table·属于只读表格。·如果需要改动，可以将Edit菜单里的ReadOnly复选钩去掉。Errors分析·Mean和standarddeviation可以是Absolute或Relative.通常选择相对的，此时误差与膜层厚度成正比。Color颜色计算的设置。3DPlot·画一个3Dplot。坐标轴的具体的设置在Parameters>>3Dperformance里面。Lock/LinkMenu(Design)用于refinement和synthesis过程。Lock:如果layer锁定了，则不参加优化，保持其初始的厚度值。Unlock:取消锁定，Link:二个或几个膜层建立关联。TOOLS－Compactdesign·设置最小允许的膜层厚度。软件会将厚度小于设置值的膜层去掉，并关闭设计。RefineDesign提供的优化方法有：·Simplex,(通常叫nonlinearsimplex）·Optimac,·SimulatedAnnealing,·ConjugateGradient,·Quasi-Newton，·Needlesynthesis。IndexProfile·绘出折射率－厚度曲线。下图中显示的是quarter-half-quarter抗反射膜的折射率曲线。左边是入射介质，右边是出身介质或基底。产生Rugate薄膜·Material中设置的膜层中允许的最高折射率，·VoidMaterial中是膜层中允许的最低折射率。·VoidDensity设置为1.Rugate薄膜举例Refinement和synthesis·可以自动优化设计，它们的操作是类似的·Refinement一般是对已有的设计进行轻微的调整，·synthesis则着重于结构，即使没有初始结构也可以操作。Targetsforrefinement·包含三种目标：·Standard,·Color，·ThicknessStandardTargetsStandardTarget的设置·Wavelength:工作波长，单位nm,·IncidentAngle：按定义的单位。如果不是0，则可以选择偏振分量。·Weight：权重。缺省值为1，·TargetTolerance：每个目标值可接受的公差值，·Derivative：给出相对于第一栏中自变量(波长或频率)的目标类型的偏差的等级，如果是0，表示没有偏差。·Link：指定目标值之间的联系。ColorTargets的设置·colortargets：除了类型是颜色方面的外，其它各项的意义和标准目标是一样的。还需要指定光源分布和观察者。·mode：指定是计算透射还是反射的颜色。对stacks,还有一个模式就是BackReflectance.它计算出射介质一端反射的颜色，对vStacks,只有throughput模式。ThicknessTargets·显示材料和所要求的总厚度。当有一个或多个总厚度目标，refinement试图移去材料的总厚度，达到要求的厚度，同时又去满足其它要求。RefinementandSynthesis·有六种方法：(1)Simplex,(2)Optimac,(3)SimulatedAnnealing,(4)ConjugateGradient,(5)Quasi-Newton(6)NeedleSynthesis.Simplex提供直接的优化，Optimac可以refinement和synthesis,SimulatedAnnealing优化，但可以在一个很大的参数空间范围，ConjugateGradient和Quasi-Newton是化方法，它们是用信息(derivativeinformation)来进行优化。Needlesynthesis方法是增加膜层。Simplexrefinement·Simplexrefinement计算速度非常快。通过对初始膜层和/或packingdensities进行扰动。·通常，设计的总数目会比层数多一个，packingdensities最小为5。采用迭代的方法，用好一些的设计结果替代最差的设计。Simplexrefinement的设置Simplex设置说明·可以选择RefineThicknesses和RefineIndex，·用PackingDensity作为变量优化折射率，·用upper和lowerthicknesslimits控制厚度，·用packingdensitylimits控制packingdensity。CommonScaling，如果选定，则相同材料的所有膜层的packingdensities移到一起。Inhomogeneity可以通过至少二个有各自不同的packingdensity的膜层来模拟。·因为这种方法很快，所以建议迭代的次数设定为几千，·优化过程会自动显示曲线。Simplex过程Optimac优化参数设置对话框Optimac设置-优化参数·Optimac有很多小面facets。可以适用于synthesis和refinement.·Optimac对膜层厚度没有限制，只要不为负就行。·通过设置NumberofSynthesisCycles的值，确定是否refinement或synthesis。如果为0，则只进行refinement。如果没有初始结构，取50左右比较合理。如果有好的初始结构，可以用比较低的值。·SynthesisStep：表示插入到synthesis过程的膜层厚度。可以设置得很大，但通常在0.1~0.3比较好。·SynthesisParameter：决定在synthesis操作中，改变是否保持。对比较好的初始结构，设置为0.2左右比较好。·InitialSearchStep：程序会先在“当前值±InitialSearchWidth”范围内搜索。NumberOfIterations：根据每个synthesis操作之间的优化次数。应该设置为40~50。·MaximumNumberofLayers：如果设计过程是完全自动的，则不要设置得太大，否则会连续增加膜层。如果设计过程受到监控，并且在适当的时候会手动停止，则可以设置得比较大。Optimac材料设置Optimac过程SimulatedAnnealing优化算法介绍·SimulatedAnnealing不是一个新技术，但大量用在薄膜设计中。它由一个设计组成，随机地在优化函数面上进行扰动。·模拟实际的退火过程，由Boltzmann分布exp(-E/kT)产生的随机数确定下一个结果，E代表优化函数的随机增加，KT代表退火温度k是Boltzmann常数，而不是消光系数)。慢慢地使优化函数达到最小。处理过程越久，通常结果更好。·在没有明显的初始结构时，用这种方法最好。适用于有入射用的情况，特别是其它方法不行的时候。Annealing参数设置·参数、标准偏差和初始温度分别设定。·厚度波动的标准偏差有一个开始值和结束值。在操作开始时，波动应该非常大，但在末期就比较小。·退火温度的单位为度，每一度为初始优化函数的1/10000。好的初始结构是必百或上千，退火过程会慢慢地降低温度，直到最终为0。温度的下降不是线性的，有时候递减的速度开始快，但标准偏差是相同的。绝对：0.2意思是在当前厚度上增加0.2xl0，相对：则是在当前厚度上增加膜厚的0.2倍，最好选择“绝对”，至少开始的时候，否则薄膜会不变化。随机数的种子来自计算机的时钟，一般不需要改变。在simulatedannealing中，厚度上限在0.75左右是非常好的起始点，如果设置得太大，特别是早期的时候，会出现优化函数的大幅振动。Annealing过程ConjugateGradient法·ConjugateGradient优化方法属于用微分信息确定优化函数面的斜率的方法。优化时，此信息用于改变设计参数(通常是膜层厚度)。ConjugateGradient参数设置·MeritFunctionPower：必须为正的偶数，此数越大，优化越久。通常为2就可以了。·LimitingRangeforMeritFunction：如果优化函数小于此值，则会停止优化并返回优化设计。·MaximumIterations：另一个优化终止的标准。·MinimumMeritFunctionImprovementToUpdatePlot(%)：控制多久要更新曲线一次。·TerminationMatchCount：可以用于指定达到所要求的小斜率的连续的时间的数目。如果TerminationMatchCount小于0，因为优化函数斜率很小，则refinement永远不会停止。ConjugateGradient过程Quasi-Newton法介绍·Quasi-Newton优化方法也属于用微分信息确定优化函数面的斜率的方法。优化时，此信息用于改变设计参数(通常是膜层厚度)。·其参数设置和ConjugateGradient一样。Quasi-Newton过程NeedleSynthesis法介绍·Needlesynthesis用优化图形面的微分信息来确定需要在哪里插入一个新的膜层。·当优化图形的微分为负时，是插入新的膜层的最佳位置。·在插入了所有厚度为0的膜层后，用ConjugateGradientrefinement将新的膜层的厚度扩展为非0值。·在refinement过程中,如果能够改进优化图形，其它膜层的厚度也会改变。·优化过程一直重复，直到达到所要求的结果为止，或者达到某些限定(如总的迭代次数)。NeedleSynthesis参数NeedleSynthesis参数介绍·NumberofSynthesisCycles：指定NeedleSynthesis尝试插入膜层的次数。当超过这个值时，NeedleSynthesis会停止。·MeritFunctionLimit：是另外一个控制NeedleSynthesis何时停止的一个参数。当优化函数降到小于这个值时，NeedleSynthesis停止。·如果ConjugateRefinement完成了，则会插入一个厚度小于NewThicknessValue新的膜层，然后NeedleSynthesis会在入射介质后面或基底前面加入增加一个材料。如果优化函数没有改进Minimumimprovement所确定的数值，则再增加新的材料。·MaximumNumberofNewNeedles：定义每次迭代时可以增加的最大层数。当CompactInterval大于0时，每个CompactInterval都迭代，NeedleSynthesis会简化设计，去掉那些厚度小于CompactThickness的膜层。如果CompactInterval等于0，则不简化设计。它们一般都设置为1nm。SynthesisMaterials参数列出插入新的膜层所用的材料。缺省值为设计中所有没有locked膜层所用的材料，还可以增加或去年其它材料。NeedleSynthesis过程MATERIALSMANAGEMENT材料管理介绍·光学常数数据有：·折射率n,·消光系数k,·波长l等。·如果需要，这些值可以进行内插或外推。·一次只能有一个活动的材料库，但可以通过输入相关材料文件，使用多个库中的材料。·设置活动材料库方法为：Options>>General…中设置。要改变材料库，首选要关闭所有设计和材料，然后在材料文件夹选项中选择。如果输入了一个新的，但本应的材料不存在，则会给出一个新建选项，它是一个空的数据库，除了一个材料，空气和一个基底外。在库中显示材料列表·大部分窗口的Tools菜单中都有Materials项.·材料排列顺序可以通过Edit>>Sort来改变。从其它库中输入材料·首选用Tools>>Materials激活Materials窗口，·然后用Edit>>Import命令。选择所要的材料库，并从中选取要输入的材料，点import就可以。显示材料数据·材料表可以可以用File>>OpenMaterial...命令打开。·另一种方法是在材料显示列表中(Tools>>Materials)双击材料的名称，可以得到这个材料的特性列表。此时，可以从Plot菜单中画出材料对波长和频率变化曲线。手动输入·用file>>new>>material新建材料时，对一些没有输入的值，用线性插值的方法计算。但一些不平滑的曲线，可以用InsertPoints，然后程序用三次样条插值计算进行平滑。用insertpoints进行平滑波长单位变换·在编辑新材料时，可以用Edit>>WavelengthScale...命令定义不同的波长单位(缺省为nm).组合密度PackingDensity...·薄膜的折射率不仅取决于材料，还取决于组合密度。即使是同一材料，如果组合密度不同，其折射率也不相同。当组合密度变化时，通过它可以让存储的材料的折射率也变化。·它可以在二个数据库中调整二个材料的常数，以表示在不同基底温度下的材料沉积的不同。·注意：一旦改变了，在用的时候没有任何指示。所以，除非非常明显，的材料与标准的不一样，否则不要用此命令。热模型·材料的三个热参数。LinearExpansionCoefficient和dn/dT的单位是固定的。删除材料·首先选择Tools>>Materials·然后选择Edit>>Delete·只能删除最后一个材料。OpticalConstantExtraction·可以用变量包络技术(variantenvelopetechnique)，可以从反射率和透射率的数据提取光学常数(Opticalconstants)。·这种方法通过反射率和/或透过率的最大和最小值，用插值计算最大和最小值之间的数据，产生包络。·如果精确地确定了极值的位置，则可以给出光学常数的色散信息。OpticalConstantExtraction步聚·File>>New>>OpticalConstant打开窗口，·输入相应的数据(如下表)，里面包括最大和最小透过率或反射率(没有对后面的面进行修正，要求后面的面是未镀膜的)。参数设置·Type:用不同的符号表示1/4或1/2波长：T-QW,T-HW,R-QW，R-HW.·基底的结果可以输入或通过已经存在的材料文件取得。这些也可以是未镀膜的的透过率，标记为T-SUB,或基底折射率，标记为N-SUB.·DataSource：Measured和Envelope。Measured对应实际的最大或最小值。Envelope的结果是为了帮助程序画1/4或1/4波长包络图。是由三次样条插值函数插值得到的。数据输入·菜单项Transmittance或Reflectance打开一个数据显示窗口。可以用file>>import输入透射率或反射率曲线。·用鼠标拖动一个矩形区域来定义搜索范围，放开鼠标得到峰值的位置。就在窗口的左上角显示波长和峰值的值。需要指定是1/4(cross)或1/2(plus)波长，是测量点还是包络点。、·用AddPoint按钮会将数据转换到data窗口中，用来计算包络。则1/4波长的点，用“´”标记，1/2波长点用“+”标记。·用<Alt>+<Shift><LeftMouseButton>建立不同的包络点。然后用AddPoint输入为包络点。Calculate>>Parameters参数·ApproximateIndex：因为有多重解，所以需要指定近似折射率。·R/TTolerance：为百分比。如果得不到正确解，决定程序如何处理。首先会在公差范围内调整结果，如果得到了一具好的结果，会标记“A”，如果还得不到好的结果，会标记“B”。·FilmModel：薄膜模型是inhomogeneous和不吸收，还是均匀和吸收的。·IncidentAngle：入射到薄膜上的角度。最大为45度。.·Polarization：倾斜测量的偏振光分量(S,P)。在整个测量过程中，必须用同一个偏振分量。·MatchExtrema：在常规操作中，不是总能精确适合极值波长，·SubstrateMaterial：选择基底材料。·UseSpectrum：选择了时，用透过率数据确定薄膜的光学常数，如果没选，会用SubstrateMaterial的信息确定其光学常数。光学常数提取过程点Extractn&k就会进行计算。计算结果计算的光学常数结果光学常数曲线从计算结果中创建材料·可以用CreateMaterial菜单选项建立材料。有三个选项：FromInnern,FromOutern,FromMeann.·如果模型是均匀的，则这些结果是一样的，如果是非均匀的，则这些模型明显不一样。·如果检查反射和/或透射曲线，会发现极值点不是很匹配，此时可以选择迫使结果与极点位置匹配，而不是选择Matchextrema。此选项先计算光学常数和膜层厚度，然后迫使光学常数与极值点匹配。得到基底的光学常数·可以用Options>>Substraten,k&T，从透射率和反射率中得到光学常数。材料和基底数据可以从测量数据中得到。一旦选择了Substraten,k&T命令，就会显示ExtractSubstrateCharacteristics窗口。数据文件单位·选择Unity：测量值在0~1之间.·选择Percent：测量值在0~100之间.数据处理·一旦输入了scalefactor，选择Next就会到数据处理页面。在这里允许对测量的数据进行平滑，及其它处理选项。SubstrateOpticalConstants·需要在这里指定基底的厚度值。·用CreateMaterial和CreateSubstrate按钮创建新材料文件和新基底文件。它们可以存在当前材料数据库中。MULTICOAT-Stack·它由一系列介质组成，从IncidentMedium介质开始，以EmergentMedium结束。下图就是一个多层膜的例子。更复杂的stack例子参数定义·Mediumtype:Incident,Emergent,parallel,wedged.假定介质的界面或边界足够平行(所有反射的光束仍然在系统的孔径内)，或是楔形的(反射光束到系统孔径之外)。·Mediummaterial:由其光学常数和内透射率确定。·Mediumsubstrate:和材料一样选择。·Coatingfile:薄膜文件名。·coatingdirection：forward,reversed,定义每一层薄膜。·CoatingLocked:只有没有锁定的膜层才参加优化和综合。StackRefinementandSynthesis·在stack中，如果同一个薄膜放在不同的面上，则优化时，会只调整其中一个，然后再应用到所有的面上去。·如果想优化的时候分别处理所有的薄膜，但又想让它们的起始点相同，则应该将它拷贝成新的文件，放在不同的面上。创建新的stack的方法·File>>New>>Stack调出Stack窗口，·起始的stack由入射介质空气、一块平行玻璃板和出身介射空气组成，没有薄膜。1.建立一个新设计·下面以计算二边都有抗反射膜的平行玻璃板的特性为例说明如何建立stack。·首先，要建立一个抗反射膜。可以用file>>New建立一个新抗反射膜。然后存为Arcoat.dds建立stack·只需要加入二个薄膜。在stack窗口上的第二栏和第三栏上的CoatingFile栏双击，选择文件ARcoat.DDS.如果要删除膜层，选择膜层，然后按<del>就可以了。·Directions会自动给出，如果不对，可以更改。Performance设置可以从Parameters>>Performance中设置绘图的条件建立更复杂的stack·由二块玻璃基底组成。一块二边镀有抗反射膜，另一块只有一边镀膜。入射和出射介质都是空气，在基底二边都是空气，基底的面是平行的，但它们之间的空气间隔是楔形的。内透过率为100%。·新的stack如下反射率和透过率曲线ANALYSIS和DESIGN工具分析工具·先打开设计窗口，Tools>>Analysis打开分析工具。有5个选项：·Admittance...,·ReflectionCoefficient...,·ElectricField...,·AbsorptanceRate...,·TotalAbsorptance....。导纳图Admittance…设置导纳图ReflectionCoefficient...电场ElectricField参数设置电场分布曲线AbsorptanceRate…参数设置计算薄膜的AbsorptanceRate或potentialabsorptancerate。AbsorptanceRate曲线TotalAbsorptance…设置计算整个薄膜中各层的吸收率。TotalAbsorptance…曲线设计工具·有4个选项：·EdgeFilter...,·Herpin...,·InducedTransmissionFilterDesign...·SymmetricalPeriods….可以辅助建立一个特定类型的薄膜。EdgeFilter...·EdgefiltersEdgeFilter...是用来自动设计这样一个周期性结构的工具。是基于1/4波长stacks。用于构建平板偏振器。·一般可以考虑成如(0.5HL0.5H)或(0.5LH0.5L)的对称周期性结构。[对称周期性结构参见Herpin...]·还有更复杂的对称二种材料的周期性结构(aAbBcAbBaA)，其中A和B高和低折射率材料(或者反过来)。可以通过调整a,b,c来消除偏振，·尽管对很多层的对称周期性结构也可以调整，但最好是用5层周期。EdgeFilter参数设置EdgeFilter设计·只要选择好了，然后点MakeEdgeFilter就会出现一个设计结果，同时在公式对话框中会显示其公式。·下面是一个短波通滤波器(边缘510nm)。设计结果的曲线所对应的公式·打开edit>>formula：Herpin...·膜层的对称系列的积矩阵(productmatrix)可以表示为一个单层膜的矩阵形式。这种等效的单层膜与对称系统具有等效的光学导纳和位相厚度。这就是所说的Herpin等价。·因为对称系统在同一个设计中要重复多次，常认为是对称周期结构，有时也叫Herpin周期。·Herpin...计算对称的介质膜(即透明的)的等效导纳E,和等效位相厚度¡。在计算前，认为膜层的材料和厚度为均匀的，也不考虑任何输入入射角，只计算垂直入射的等效参数。Herpin操作举例·在一个设计中，选择一系列膜层为对称的周期结构。设计中可能有其它膜层，但计算时只考虑所选择的膜层。·首先激活设计窗口，选择Formula，输入有关数据。设计结果上面的设计可以得到以下的结果：Herpin设计·用Shift+mouse选择前面三层，·从Tools>>DesignTools>>Herpin....,会出现下面的对话框，可以选择输出是表格还是绘图。导纳曲线·二根曲线之间的间隔参数是虚数的区域，是高反射率的区域InducedTransmissionFilterDesign...·此选项计算感应透射滤波器的参数。设计时：·(1)Tools>>designtools>>InducedTransmissionFilterDesign.启动设计窗口，·(2)设置滤波器的峰值波长，入射介质的材料，入射角和偏振等，偏振可以为s或p(入射角为非0)。·(3)设置吸收层的详细数据：材料，厚度，厚度的单位。·(4)匹配层的材料：这个材料假定是理想电介质，在进行计算以前，所有消光系数都去掉。参数设置窗口设计结果·用Makedesign，将结果转换到设计中去。设计结果：·吸收层n:0.0510，k:2.9600000·物理厚度:80.000000·Optimumexitadmittance:0.31707+i3.04661·匹配层折射率:2.1445，光学厚度:0.15292420SymmetricalPeriodsDesign…·对称薄膜组合，可以用一层膜等效，其光学导纳和位相厚度可以从单层膜的参数计算。·symmetricalperiodsdesign可以计算3层对称周期结构的厚度，所以其等效膜有相同的光学导纳和位相厚度。Sensitivity·sensitivity计算设计结果对不同公差的灵敏度。目前只能计算一种–MacleodTurningPoint.·MacleodTurningPointsensitivity分析每层制造的难度。MacleodTurningPoint给出参考波长处，最后透射率和反射率振幅能达到的情况。值越大，表明膜层的制造越困难，具体可参见"Turningvaluemonitoringofnarrow-bandall-dielectricthin-filmopticalfilters"inOpticaActa1972Vol.19No.1pp1-28.·它全部是正的。·只适合厚度为1/4波长的整数倍的情况。相对灵敏度·例子：smallsinglecavityfilterPotentialTransmittance:74.07%Intercept:0.104545