LOW-E镀膜玻璃的色差分析及解决办法.doc

LOW-E镀膜玻璃的色差分析及解决办法.doc 第 1 页 共 4 页 LOW-E镀膜玻璃的色差分析及解决办法 镀膜玻璃的色差有存在于一片玻璃上的, 也有存在于玻璃片与片之间的。在生产中造成镀膜玻璃色差的原因很多, 本文主要从以下两方面就色差产生的原因和解决方法进行分析。 一:玻璃原片方面 如果玻璃原片本身存在色差, 一定会导致镀膜玻璃产生色差。尤其是本底着色的浮法玻璃, 不同批次生产的浮法玻璃由于原料和工艺条件的变化很容易导致颜色不一致产生色差。玻璃原片由于存放时间过长, 面发霉或与包装材料之间发生反应,产生纸纹等缺陷以及浮法玻璃在退火过程中表面沾上油或水等形成油迹、水迹等清除不掉玻璃原片在钢化处理时产生斑点、斑纹, 这些缺陷镀膜后也会产生色差。玻璃原片的透射比较高, 其表面上的斑纹、水迹等质量缺陷大多数情况下用肉眼看不出来, 但玻璃镀上膜以后就很明显地表露出来。有的浮法玻璃在生产过程中形成宽度相同的直线型线道, 俗称暗道, 镀膜前不易看出, 镀膜后却很明显。再有玻璃厚度不均, 可见光透射比相差较大也会导致产生色差。在日常生产中因为玻璃原片质量问题导致镀膜玻璃产生色差的情况较多, 因此,一定要做好玻璃原片的选购和质量检验工作。 二:薄膜方面 镀膜玻璃的膜层是其价值所在, 也是其质量好坏的关键。在玻璃原片质量符合的前提下, 膜层不均匀是镀膜玻璃色差产生的根本原 第 2 页 共 4 页 因, 其中包括膜层厚度不均和膜层材质成份不均两个方面。单质金属膜镀膜玻璃的膜层是由一层或几层单质金属膜组成的, 膜层厚度的均匀性决定了镀膜玻璃的可见光透射比和颜色的均匀性, 保证各个膜层厚度均匀就能保证没有色差。复合膜玻璃的膜层是由几层 功能不同的薄膜组成的, 各层薄膜厚度及材质成份的变化都会或多或少地影响镀膜玻璃的目的。因此, 在生产过程中严格控制工艺参数保证每层薄膜厚度及材质成分均匀非常重要。 影响膜层均匀性的主要因素有: 1:阴极的磁场分布 离线镀膜玻璃的生产是利用真空磁控溅射的工作原理, 利用磁场束缚电子的运动, 使轰击靶材表面的高能离子数量增多, 从而达到快速镀膜的特点。因此磁场分布是否均匀非常重要。磁铁在受热或受冲击的情况下会出现退磁, 造成磁场分布不均, 如不及时充磁保证磁场均匀分布就会导致膜层不均的质量问题。再者随着靶刻蚀深度的不断加 大, 靶材表面离磁铁的距离越来越近, 磁场强度越来越大, 靶材的溅射率不断提高从而使沉积速度增大, 膜层厚度较先前状况有所增加。因此, 要根据靶材刻蚀深度和刻蚀区面积的变化及时调整工艺参数, 保证膜层均匀。 2:气体分布 真空磁控溅射镀膜是在一定压强的工作气体一般为氩气环境中完成的, 如果上作气体分布不均匀, 就会产生不均匀的等离子体放电从而 第 3 页 共 4 页 影响靶材的溅射沉积速度, 导致膜厚不均。同时, 在镀制化合物薄膜时, 反应气体分布不均以及成膜过程中气体分布变化都影响化合物薄膜的成分。因此, 使用合理的布气系统, 定期清理布气装置 防止堵塞, 保证气体分布均匀, 是避免色差的有效方法之一。 3:靶材表面温度 靶材的温度影响靶材的溅射率。由于阴极冷却水套结垢或堵塞等原因造成靶材冷却效果不好, 其表面温度不均, 影响靶材的溅射率, 从而导致膜层不均。 4:靶材材质 不同材料的靶材、不同工艺生产的靶材、靶材密度及成份差别都将影响其溅射率。由于冶金方面的问题造成靶材中存在大量杂质且集中分布, 使靶材的纯度和密度不一致从而影响靶材的溅射率,造成膜层不均。 5:玻璃表面温度 为减少玻璃表面吸附的残余气体增加膜层附着力, 玻璃在镀膜前一般要加热。玻璃表面的温度影响膜层的生长及特性, 加热不均匀造成玻璃表面温度相差较大, 就会使膜层不均。在镀制化合物薄膜时玻璃温度还影响薄膜粒子与反应气体的化学反应改变膜层的结晶构造,影响薄膜光学性能。因此在加热玻璃原片时要保证一片玻璃温度均匀, 还要保证各片玻璃镀膜时温度一致。 6:磁控溅射放电的稳定性 第 4 页 共 4 页 磁控溅射放电的稳定性与阴极靶及其附件表面的清洁程度有关。在玻璃镀膜过程中, 有时会出现由于阴极或其附件表面不清洁, 造成稳定的异常辉光放电突然变为某处的弧光放电或短暂的“ 打火” ,导致正在镀膜的玻璃膜层不均 7:阴阳极间距 阴极靶表面距辊道和底板的距离与距玻璃表面的距离不同, 当玻璃进人或离开靶下时阴极的放电状态会因阴阳极间距的变化而有所改变, 导致玻璃边部与中部的膜层有所不同。