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DDR2布线约束参考

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DDR2布线约束参考布线约束参考 布线约束参考             路径分成三段             ? 路径 1(#1): 控制器到第一条 DIMM 的路径,包括 DQ/DQS 信号、地址信号和控制信号。             ? 路径 2(#2): 第一条 DIMM到第二条 DIMM之间的路径,包括 DQ/DQS信号、地址信号和和控制信号。             ? 路径 3(#3): 第二条 DIMM到VTT上拉电阻的路径,只有地址信号和控制信号。数据信号有 ODT。             约束以下关键长度          ...
DDR2布线约束参考
布线约束参考 布线约束参考             路径分成三段             ? 路径 1(#1): 控制器到第一条 DIMM 的路径,包括 DQ/DQS 信号、地址信号和控制信号。             ? 路径 2(#2): 第一条 DIMM到第二条 DIMM之间的路径,包括 DQ/DQS信号、地址信号和和控制信号。             ? 路径 3(#3): 第二条 DIMM到VTT上拉电阻的路径,只有地址信号和控制信号。数据信号有 ODT。             约束以下关键长度             ? #1典型长度在 1900mil至 4500mil 之间。             ? #2 典型长度约为 425mil左右。             ? #3典型长度在 200mil至 550mil 之间。#3 丌需要时序约束。             ? 同一个数据信号组(包括 DQ 及对应 DQS)需要精确的匹配长度,长度差异要求在+/-50mil。其中分配给#1             度差异要求在+/-30mil,分配给#2的长度差异要求在+/-20mil。             ? 所有数据信号组的组间长度差异要求在+/-500mil。             ? 地址信号间的长度差异要求在+/-200mil。 DDR,DDR2的时序要求一般比较高,所以对于时钟、地址控制线、数据、DQS等的等长要求较高。 以下简单说一下DDR,DDR2的等长布线要求- ?' _# Y3 y1 ` DDR 时钟(查分):一般要求差分阻抗100欧。 线宽、间距需要根据叠层结构计算出来,与其他走线的间距要满足3w规则;必需精确匹配差分对走线误差,允许在+30mil 以内。 KDDR 地址、片选及其他控制线:单端阻抗50欧。应走成菊花链状拓扑,可比ddrclk 线长1000-2500mil,绝对不能短。 DDR 数据线,ddrdqs,ddrdm 线:单端阻抗50欧。最好在同一层布线。数据线与时钟线的线长差控制在50mil 内。其中要特别注意DQS的走线,要满足3W规则。 ( P7 Y; N0 E; H- r+ G 其中PCB走线阻抗都要根据实际的叠层结构计算。 2010年03月10日 星期三 22:57 DDR SDRAM:严格的说DDR应该叫DDR SDRAM,人们习惯称为DDR,部分初学者也常看到DDR SDRAM,就认为是SDRAM。DDR SDRAM是Double Data Rate SDRAM的缩写,是双倍速率同步动态随机存储器的意思。DDR内存是在SDRAM内存基础上发展而来的,仍然沿用SDRAM生产体系,因此对于内存厂商 而言,只需对制造普通SDRAM的设备稍加改进,即可实现DDR内存的生产,可有效的降低成本。 SDRAM在一个时钟周期内只传输一次数据,它是在时钟的上升期进行数据传输;而DDR内存则是一个时钟周期内传输两次次数据,它能够在时钟的上升期和下 降期各传输一次数据,因此称为双倍速率同步动态随机存储器。DDR内存可以在与SDRAM相同的总线频率下达到更高的数据传输率。 与SDRAM相比:DDR运用了更先进的同步电路,使指定地址、数据的输送和输出主要步骤既独立执行,又保持与CPU完全同步;DDR使用了 DLL(Delay Locked Loop,延时锁定回路提供一个数据滤波信号)技术,当数据有效时,存储控制器可使用这个数据滤波信号来精确定位数据,每16次输出一次,并重新同步来自 不同存储器模块的数据。DDL本质上不需要提高时钟频率就能加倍提高SDRAM的速度,它允许在时钟脉冲的上升沿和下降沿读出数据,因而其速度是标准 SDRA的两倍。 从外形体积上DDR与SDRAM相比差别并不大,他们具有同样的尺寸和同样的针脚距离。但DDR为184针脚,比SDRAM多出了16个针脚,主要包含了 新的控制、时钟、电源和接地等信号。DDR内存采用的是支持2.5V电压的SSTL2标准,而不是SDRAM使用的3.3V电压的LVTTL标准。 DDR2的详解 RDRAM:RDRAM(Rambus DRAM)是美国的RAMBUS公司开发的一种内存。与DDR和SDRAM不同,它采用了串行的数据传输模式。在推出时,因为其彻底改变了内存的传输模 式,无法保证与原有的制造工艺相兼容,而且内存厂商要生产RDRAM还必须要加纳一定专利费用,再加上其本身制造成本,就导致了RDRAM从一问世就高昂 的价格让普通用户无法接收。而同时期的DDR则能以较低的价格,不错的性能,逐渐成为主流,虽然RDRAM曾受到英特尔公司的大力支持,但始终没有成为主 流。 RDRAM的数据存储位宽是16位,远低于DDR和SDRAM的64位。但在频率方面则远远高于二者,可以达到400MHz乃至更高。同样也是在一个时钟 周期内传输两次次数据,能够在时钟的上升期和下降期各传输一次数据,内存带宽能达到1.6Gbyte/s。 普通的DRAM行缓冲器的信息在写回存储器后便不再保留,而RDRAM则具有继续保持这一信息的特性,于是在进行存储器访问时,如行缓冲器中已经有目标数 据,则可利用,因而实现了高速访问。另外其可把数据集中起来以分组的形式传送,所以只要最初用24个时钟,以后便可每1时钟读出1个字节。一次访问所能读 出的数据长度可以达到256字节。 ------------------------------------ 3月4日更新 “上古”时代的FP/EDO内存,由于半导体工艺的限制,频率只有25MHz/50MHz,自SDR以后频率从66MHz一路飙升至133MHz,终于遇 到了难以逾越的障碍。此后所诞生的DDR1/2/3系列,它们存储单元官方频率(JEDEC制定)始终在100MHz-200MHz之间徘徊,非官方(超 频)频率也顶多在250MHz左右,很难突破300MHz。事实上高频内存的出错率很高、稳定性也得不到保证,除了超频跑简单测试外并无实际应用价值。既 然存储单元的频率(简称内核频率,也就是电容的刷新频率)不能无限提升,那么就只有在I/O(输入输出)方面做文章,通过改进I/O单元,这就诞生了 DDR1/2/3、GDDR1/2/3/4/5等形形色色的内存种类。 通常大家所说的DDR-400、DDR2-800、DDR3-1600等,其实并非是内存的真正频率,而是业界约定俗成的等效频率,这些DDR1/2/3 内存相当于老牌SDR内存运行在400MHz、800MHz、1600MHz时的带宽,因此频率看上去很夸张,其实真正的内核频率都只有200MHz而 已! 内存有三种不同的频率指标,它们分别是核心频率、时钟频率和有效数据传输频率。核心频率即为内存Cell阵列(Memory Cell Array,即内部电容)的刷新频率,它是内存的真实运行频率;时钟频率即I/O Buffer(输入/输出缓冲)的传输频率;而有效数据传输频率就是指数据传送的频率。 近年来内存的频率虽然在成倍增长,可实际上真正存储单元的频率一直在133MHz-200MHz之间徘徊,这是因为电容的刷新频率基本到了上限。而每一代 DDR的推出,都能够以较低的存储单元频率,实现更大的带宽,并且为将来频率和带宽的提升留下了一定的潜力。 虽然存储单元的频率一直都没变,但内存颗粒的I/O频率却一直在增长,再加上DDR是双倍数据传输,因此内存的数据传输率可以达到核心频率的8倍之多! 相信很多人都知道,DDR1/2/3内存最关键的技术就是分别采用了2/4/8bit数据预取技术(Prefetch),由此得以将带宽翻倍,与此同时I /O控制器也必须做相应的改进。预取,顾名思义就是预先/提前存取数据,也就是说在I/O控制器发出请求之前,存储单元已经事先准备好了2/4/8bit 数据。简单来说这就是把并行传输的数据转换为串行数据流,我们可以把它认为是存储单元内部的Raid/多通道技术,可以说是以电容为单位的。 这种存储阵列内部的实际位宽较大,但是数据输出位宽却比较小的,就是所谓的数据预取技术,它可以让内存的数据传输频率倍增。试想如果我们把一条细水管 安装在粗水管之上,那么水流的喷射速度就会翻几倍。 DDR3内存的优势:低功耗低发热 通过8bit预取技术,DDR3内存的有效频率在DDR2的基础上再次翻倍,延续了SDR/DDR的生命。但DDR3并非是片面提升频率从而得到高带宽, 实际上DDR3除了高频率之外,还有很多不为人知的优点。 工作电压从1.8V降至1.5V,频率翻倍的同时功耗下降20-30% 众所周知,半导体芯片的功耗与晶体管数成正比,与工作电压的平方成正比,所以电压对其功耗与发热的影响最大。和CPU/GPU的发展类似,DRAM在提高 频率和容量的同时,电压也在不断的降低。DDR1的标准电压为2.5V、DDR2下降至1.8V、DDR3则进一步压缩至1.5V。 理论上来说,同频率下DDR3会比DDR2省电达30%之多,这里需要强调的是,DDR3-1600的核心频率与DDR2-800是相同的(都是 200MHz),DDR3的IO频率虽然翻了一倍但对功耗发热的贡献不大,此消彼长之后DDR3-1600比DDR2-800省电23%! 但是,在DDR3发展初期,很多内存厂商为了片面追求高频率,推出过不少高压高频内存条,默认1.8V-2V甚至2.2V的内存都有,这些内存的功耗与发 热显然不会比DDR2低,这也就导致大家对DDR3产生不好的印象。 使用更先进的工艺制造,容量翻倍的同时功耗再降 时代在发展工艺在进步,DDR3作为最新产品自然会使用最先进的工艺制程,与早期6Xnm工艺的颗粒相比,新投产的5Xnm可以将DRAM颗粒的功耗再降 33%,还不到DDR2的一半! 经常关注笔记本的朋友应该会发现2008下半年很多品牌都开始标配DDR3内存,笔记本领先台式机开始普及DDR3,虽然笔记本CPU尚无法利用到 DDR3内存的巨大带宽,但超低的功耗是非常诱人的,一些专为笔记本设计的内存将电压进一步降至1.35V,功耗仅为DDR2的37%,确实不可思议! DDR3的最大误区:相对延迟变大,绝对延迟变小 在DDR3发布初期,由于其性能表现并没有想象中的那么好,所以很多人认为DDR3被它较高的延迟拖了后腿,事实上这个论调在DDR2初代内存身上也出现 过,并不稀奇。那么DDR3真的是延迟太高影响性能了吗? DDR3的I/O频率相比DDR2有了成倍的增加,为了保证高频率下数据精确的传递,DDR3的总体延迟相比DDR2有所提高。这些延迟的提高会一定程度 上造成内存性能下降,但绝不会超过高频率带来的性能提升。事实上除了理论CL值这些延迟之外,内存真正的延迟还与工作频率有关。 片面地认为CL数值大就是DDR3延迟表现不及DDR2,是完全错误无知的观念。事实上,JEDEC定下的DDR2-533的CL 4-4-4、DDR2-667的CL 5-5-5及DDR2-800的 CL6-6-6,其内存延迟均为15ns。 内存实际延迟 = CL值*1000/IO频率 通过公式代入计算就能得出,DDR3-1066 C7、DDR3-1333 C8、DDR3-1600 C9的实际延迟都要低于DDR2默认的15ns,和主流的DDR2-800 C5差不多。不论DDR2还是DDR3都有高频低延迟的型号,DDR3依然占据上风。   3个的区别是频率,还有延时,DDR1的最高速度是DDR400,DDR2最高可达1150(极个别的超频条子),而DDR3最低都有1333左右,这个 就跟电脑处理器的主频是差不多的,但是呢,随着频率的提高,延时也加大了,所以,最低的DDR3速度不会比最高的DDR2快,同样,DDR2 533也比DDR400快不到哪里去   但同一类型不同频率的内存可以混用 只不过频率高的内存会自动降频至频率低的内存的工作频率 这样会造成性能浪费. SDR有PC-100 和 PC-133 DDR有226 333 400 DDR2有533 667 800 1066 DDR3有1066 1333 1600 2000 甚至更高 针对DDR2-800和DDR3的PCB信号完整性设计 技术分类: EDA工具与服务  | 2009-02-04 作者:winston: EDN China   EDN博客精华文章  作者:winston   摘要   本文章主要涉及到对DDR2和DDR3在设计印制线路板(PCB)时,考虑信号完整性和电源完整性的设计事项,这些是具有相当大的挑战性的。文章重点是讨论在尽可能少的PCB层数,特别是4层板的情况下的相关技术,其中一些设计方法在以前已经成熟的使用过。   1. 介绍   目前,比较普遍使用中的DDR2的速度已经高达800 Mbps,甚至更高的速度,如1066 Mbps,而DDR3的速度已经高达1600 Mbps。对于如此高的速度,从PCB的设计角度来讲,要做到严格的时序匹配,以满足波形的完整性,这里有很多的因素需要考虑,所有的这些因素都是会互相影响的,但是,它们之间还是存在一些个性的,它们可以被分类为PCB叠层、阻抗、互联拓扑、时延匹配、串扰、电源完整性和时序,目前,有很多EDA工具可以对它们进行很好的计算和仿真,其中Cadence ALLEGRO SI-230 和Ansoft’s HFSS使用的比较多。   表1显示了DDR2和DDR3所具有的共有技术要求和专有的技术要求。 表1: DDR2和DDR3要求比较 点击看原图   2. PCB的叠层(stackup)和阻抗   对于一块受PCB层数约束的基板(如4层板)来说,其所有的信号线只能走在TOP和BOTTOM层,中间的两层,其中一层为GND平面层,而另一层为 VDD 平面层,Vtt和Vref在VDD平面层布线。而当使用6层来走线时,设计一种专用拓扑结构变得更加容易,同时由于Power层和GND层的间距变小了,从而提高了PI。   互联通道的另一参数阻抗,在DDR2的设计时必须是恒定连续的,单端走线的阻抗匹配电阻50 Ohms必须被用到所有的单端信号上,且做到阻抗匹配,而对于差分信号,100 Ohms的终端阻抗匹配电阻必须被用到所有的差分信号终端,比如CLOCK和DQS信号。另外,所有的匹配电阻必须上拉到VTT,且保持50 Ohms,ODT的设置也必须保持在50 Ohms。   在 DDR3的设计时,单端信号的终端匹配电阻在40和60 Ohms之间可选择的被设计到ADDR/CMD/CNTRL信号线上,这已经被有很多的优点。而且,上拉到VTT的终端匹配电阻根据SI仿真的结果的走线阻抗,电阻值可能需要做出不同的选择,通常其电阻值在30-70 Ohms之间。而差分信号的阻抗匹配电阻始终在100 Ohms。 点击看原图 图1 : 四层和六层PCB的叠层方式   3. 互联通路拓扑   对于DDR2和DDR3,其中信号DQ、DM和DQS都是点对点的互联方式,所以不需要任何的拓扑结构,然而列外的是,在multi-rank DIMMs(Dual In Line Memory Modules)的设计中并不是这样的。在点对点的方式时,可以很容易的通过ODT的阻抗设置来做到阻抗匹配,从而实现其波形完整性。而对于 ADDR/CMD/CNTRL和一些时钟信号,它们都是需要多点互联的,所以需要选择一个合适的拓扑结构,图2列出了一些相关的拓扑结构,其中Fly- By拓扑结构是一种特殊的菊花链,它不需要很长的连线,甚至有时不需要短线(Stub)。   对于DDR3,这些所有的拓扑结构都是适用的,然而前提条件是走线要尽可能的短。Fly-By拓扑结构在处理噪声方面,具有很好的波形完整性,然而在一个4 层板上很难实现,需要6层板以上,而菊花链式拓扑结构在一个4层板上是容易实现的。另外,树形拓扑结构要求AB的长度和AC的长度非常接近(如图2)。考虑到波形的完整性,以及尽可能的提高分支的走线长度,同事又要满足板层的约束要求,在基于4层板的DDR3设计中,最合理的拓扑结构就是带有最少短线(Stub)的菊花链式拓扑结构。 图2: 带有2片SDRAM的ADDR/CMD/CNTRL拓扑结构   对于DDR2-800,这所有的拓扑结构都适用,只是有少许的差别。然而,菊花链式拓扑结构被证明在SI方面是具有优势的。   对于超过两片的SDRAM,通常,是根据器件的摆放方式不同而选择相应的拓扑结构。图3显示了不同摆放方式而特殊设计的拓扑结构,在这些拓扑结构中,只有A和 D是最适合4层板的PCB设计。然而,对于DDR2-800,所列的这些拓扑结构都能满足其波形的完整性,而在DDR3的设计中,特别是在1600 Mbps时,则只有D是满足设计的。 图3: 带有4片SDRAM的ADDR/CMD/CNTRL拓扑结构   4. 时延的匹配   在做到时延的匹配时,往往会在布线时采用trombone方式走线,另外,在布线时难免会有切换板层的时候,此时就会添加一些过孔。不幸的是,但所有这些弯曲的走线和带过孔的走线,将它们拉直变为等长度理想走线时,此时它们的时延是不等的,如图4所示。 图4: Trombone 和 Vias的实例   显然,上面讲到的trombone方式在时延方面同直走线的不对等是很好理解的,而带过孔的走线就更加明显了。在中心线长度对等的情况下,trombone 走线的时延比直走线的实际延时是要来的小的,而对于带有过孔的走线,时延是要来的大的。这种时延的产生,这里有两种方法去解决它。一种方法是,只需要在 EDA工具里进行精确的时延匹配计算,然后控制走线的长度就可以了。而另一种方法是在可接受的范围内,减少不匹配度。 针对DDR2-800和DDR3的PCB信号完整性设计 技术分类: EDA工具与服务  | 2009-02-04 作者:winston: EDN China   对于trombone线,时延的不对等可以通过增大L3的长度而降低,因为并行线间会存在耦合,其详细的结果,可以通过SigXP仿真清楚的看出,如图 5,L3(图中的S)长度的不同,其结果会有不同的时延,尽可能的加长S的长度,则可以更好的降低时延的不对等。对于微带线来说,L3大于7倍的走线到地的距离是必须的。 点击看原图 图5: 针对trombone的仿真电路和仿真波形   trombone线的时延是受到其并行走线之间的耦合而影响,一种在不需要提高其间距的情况下,并且能降低耦合的程度的方法是采用saw tooth线。显然,saw tooth线比trombone线具有更好的效果,但是,它需要更多的空间。由于各种可能造成时延不同的原因,所以,在实际的设计时,要借助于CAD工具进行严格的计算,从而控制走线的时延匹配。   考虑到在图2中6层板上的过孔的因素,当一个地过孔靠近信号过孔放置时,则在时延方面的影响是必须要考虑的。先举个例子,在TOP层的微带线长度是 150 mils,BOTTOM层的微带线也是150 mils,线宽都为4 mils,且过孔的参数为:barrel diameter="8mils",pad diameter="18mils",anti-pad diameter="26mils"。   这里有三种进行对比考虑,一种是,通过过孔互联的这个过孔附近没有任何地过孔,那么,其返回路径只能通过离此过孔250 mils的PCB边缘来提供;第二种是,一根长达362 mils的微带线;第三种是,在一个信号线的四周有四个地过孔环绕着。图6显示了带有60 Ohm的常规线的S-Parameters,从图中可以看出,带有四个地过孔环绕的信号过孔的S-Parameters就像一根连续的微带线,从而提高了 S21特性。由此可知,在信号过孔附近缺少返回路径的情况下,则此信号过孔会大大增高其阻抗。当今的高速系统里,在时延方面显得尤为重要。   现做一个测试电路,类似于图5,驱动源是一个线性的60 Ohms阻抗输出的梯形信号,信号的上升沿和下降沿均为100 ps,幅值为1V。此信号源按照图6的三种方式,且其端接一60 Ohms的负载,其激励为一800 MHz的周期信号。在0.5V这一点,我们观察从信号源到接收端之间的时间延迟,显示出来它们之间的时延差异。其结果如图7所示,在图中只显示了信号的上升沿,从这图中可以很明显的看出,带有四个地过孔环绕的过孔时延同直线相比只有3 ps,而在没有地过孔环绕的情况下,其时延是8 ps。由此可知,在信号过孔的周围增加地过孔的密度是有帮助的。然而,在4层板的PCB里,这个就显得不是完全的可行性,由于其信号线是靠近电源平面的,这就使得信号的返回路径是由它们之间的耦合程度来决定的。所以,在4层的PCB设计时,为符合电源完整性(Power integrity)要求,对其耦合程度的控制是相当重要的。 点击看原图 图6: 带有过孔互联通道的s-parameters 点击看原图 图7: 图6三种案例的发送和接收波形   对于DDR2和DDR3,时钟信号是以差分的形式传输的,而在DDR2里,DQS信号是以单端或差分方式通讯取决于其工作的速率,当以高度速率工作时则采用差分的方式。显然,在同样的长度下,差分线的切换时延是小于单端线的。根据时序仿真的结果,时钟信号和DQS也许需要比相应的ADDR/CMD /CNTRL和DATA线长一点。另外,必须确保时钟线和DQS布在其相关的ADDR/CMD/CNTRL和DQ线的当中。由于DQ和DM在很高的速度下传输,所以,需要在每一个字节里,它们要有严格的长度匹配,而且不能有过孔。差分信号对阻抗不连续的敏感度比较低,所以换层走线是没多大问题的,在布线时优先考虑布时钟线和DQS。   5. 串扰   在设计微带线时,串扰是产生时延的一个相当重要的因素。通常,可以通过加大并行微带线之间的间距来降低串扰的相互影响,然而,在合理利用走线空间上这是一个很大的弊端,所以,应该控制在一个合理的范围里面。典型的一个规则是,并行走线的间距大于走线到地平面的距离的两倍。另外,地过孔也起到一个相当重要的作用,图8显示了有地过孔和没地过孔的耦合程度,在有多个地过孔的情况下,其耦合程度降低了7 dB。考虑到互联通路的成本预算,对于两边进行适当的仿真是必须的,当在所有的网线上加一个周期性的激励,将会由串扰产生的信号抖动,通过仿真,可以在时域观察信号的抖动,从而通过合理的设计,综合考虑空间和信号完整性,选择最优的走线间距。 点击看原图 图8: 相互耦合走线的s-parameters   6. 电源完整性   这里的电源完整性指的是在最大的信号切换情况下,其电源的容差性。当未符合此容差要求时,将会导致很多的问题,比如加大时钟抖动、数据抖动和串扰。   这里,可以很好的理解与去偶相关的理论,现在从”目标阻抗”的公式定义开始讨论。 Ztarget=Voltage tolerance/Transient Current                (1)   在这里,关键是要去理解在最差的切换情况下瞬间电流(Transient Current)的影响,另一个重要因素是切换的频率。在所有的频率范围里,去耦网络必须确保它的阻抗等于或小于目标阻抗(Ztarget)。在一块 PCB上,由电源和地层所构成的电容,以及所有的去耦电容,必须能够确保在100KHz左右到100-200MH左右之间的去耦作用。频率在 100KHz以下,在电压调节模块里的大电容可以很好的进行去耦。而频率在200MHz以上的,则应该由片上电容或专用的封装好的电容进行去耦。实际的电源完整性是相当复杂的,其中要考虑到IC的封装、仿真信号的切换频率和PCB耗电网络。对于PCB设计来说,目标阻抗的去耦设计是相对来说比较简单的,也是比较实际的解决方案。   在 DDR的设计上有三类电源,它们是VDD、VTT和Vref。VDD的容差要求是5%,而其瞬间电流从Idd2到Idd7大小不同,详细在JEDEC里有叙述。通过电源层的平面电容和专用的一定数量的去耦电容,可以做到电源完整性,其中去耦电容从10nF到10uF大小不同,共有10个左右。另外,表贴电容最合适,它具有更小的焊接阻抗。   Vref要求更加严格的容差性,但是它承载着比较小的电流。显然,它只需要很窄的走线,且通过一两个去耦电容就可以达到目标阻抗的要求。由于Vref相当重要,所以去耦电容的摆放尽量靠近器件的管脚。   然而,对VTT的布线是具有相当大的挑战性,因为它不只要有严格的容差性,而且还有很大的瞬间电流,不过此电流的大小可以很容易的就计算出来。最终,可以通过增加去耦电容来实现它的目标阻抗匹配。   在4层板的PCB里,层之间的间距比较大,从而失去其电源层间的电容优势,所以,去耦电容的数量将大大增加,尤其是小于10 nF的高频电容。详细的计算和仿真可以通过EDA工具来实现。   7. 时序分析   对于时序的计算和分析在一些相关文献里有详细的介绍,下面列出需要设置和分析的8个方面:   1. 写建立分析: DQ vs. DQS   2. 写保持分析: DQ vs. DQS   3. 读建立分析: DQ vs. DQS   4. 读保持分析: DQ vs. DQS   5. 写建立分析: DQS vs. CLK   6. 写保持分析: DQS vs. CLK   7. 写建立分析: ADDR/CMD/CNTRL vs. CLK   8. 写保持分析: ADDR/CMD/CNTRL vs. CLK   表2举了一个针对写建立(Write Setup)分析的例子。表中的一些数据需要从控制器和存储器厂家获取,段”Interconnect”的数据是取之于SI仿真工具。对于DDR2上面所有的8 项都是需要分析的,而对于DDR3,5项和6项不需要考虑。在PCB设计时,长度方面的容差必须要保证total margin是正的。 表2: 针对DQ vs. DQS的DDR3写保持时域分析案例 点击看原图   8. PCB Layout   在实际的PCB设计时,考虑到SI的要求,往往有很多的折中方案。通常,需要优先考虑对于那些对信号的完整性要求比较高的。画PCB时,当考虑一下的一些相关因素,那么对于设计PCB来说可靠性就会更高。   1. 首先,要在相关的EDA工具里要设置好里设置好拓扑结构和相关约束。   2. 将BGA引脚突围,将ADDR/CMD/CNTRL引脚布置在DQ/DQS/DM字节组的中间,由于所有这些分组操作,为了尽可能少的信号交叉,一些独立的管脚也许会被交换到其它区域布线。   3. 由串扰仿真的结果可知,尽量减少短线(stubs)长度。通常,短线(stubs)是可以被削减的,但不是所有的管脚都做得到的。在BGA焊盘和存储器焊盘之间也许只需要两段的走线就可以实现了,但是此走线必须要很细,那么就提高了PCB的制作成本,而且,不是所有的走线都只需要两段的,除非使用微小的过孔和盘中孔的技术。最终,考虑到信号完整性的容差和成本,可能选择折中的方案。 针对DDR2-800和DDR3的PCB信号完整性设计 技术分类: EDA工具与服务  | 2009-02-04 作者:winston: EDN China   4. 将Vref的去耦电容靠近Vref管脚摆放;Vtt的去耦电容摆放在最远的一个SDRAM外端;VDD的去耦电容需要靠近器件摆放。小电容值的去耦电容需要更靠近器件摆放。正确的去耦设计中,并不是所有的去耦电容都是靠近器件摆放的。所有的去耦电容的管脚都需要扇出后走线,这样可以减少阻抗,通常,两端段的扇出走线会垂直于电容布线。   5. 当切换平面层时,尽量做到长度匹配和加入一些地过孔,这些事先应该在EDA工具里进行很好的仿真。通常,在时域分析来看,差分线里的两根线的要做到延时匹配,保证其误差在+/- 2ps,而其它的信号要做到+/- 10 ps。   9. DIMM   之前介绍的大部分规则都适合于在PCB上含有一个或更多的DIMM,唯一列外的是在DIMM里所要考虑到去耦因素同在DIMM组里有所区别。在DIMM组里,对于ADDR/CMD/CNTRL所采用的拓扑结构里,带有少的短线菊花链拓扑结构和树形拓扑结构是适用的。   10. 案例   上面所介绍的相关规则,在DDR2 PCB、DDR3 PCB和DDR3-DIMM PCB里,都已经得到普遍的应用。在下面的案例中,我们采用MOSAID公司的控制器,它提供了对DDR2和DDR3的操作功能。在SI仿真方面,采用了 IBIS模型,其存储器的模型来自MICRON Technolgy,Inc,对于DDR3 SDRAM的模型提供了1333 Mbps的速率。在这里,数据是操作是在1600 Mbps下的。对于不带缓存(unbuffered)的DIMM(MT_DDR3_0542cc)EBD模型是来自Micron Technology,下面所有的波形都是采用通常的测试方法,且是在SDRAM die级进行计算和仿真的。图2所示的6层板里,只在TOP和BOTTOM层进行了布线,存储器由两片的SDRAM以菊花链的方式所构成。而在DIMM的案例里,只有一个不带缓存的DIMM被使用。图9-11是对TOP/BOTTOM层布线的一个闪照图和信号完整性仿真图。 图9: 只有在TOP和BOTTOM层走线的DDR3的仿真波形 (左边的是ADDRESS和CLOCK网络,右边的是DATA和DQS网络,其时钟频率在800 MHz,数据通信率为1600Mbps) 图10: 只有在TOP和BOTTOM层走线的DDR2的仿真波形 (左边的是ADDRESS和CLOCK网络,右边的是DATA和DQS网络,其时钟频率在400 MHz,数据通信率为800Mbps) 图11: 只有在TOP和BOTTOM层走线的DDR3-DIMM的仿真波形 (左边的是ADDRESS和CLOCK网络,右边的是DATA和DQS网络)   最好,图12显示了两个经过比较过的数据信号眼图,一个是仿真的结果,而另一个是实际测量的。在上面的所有案例里,波形的完整性的完美程度都是令人兴奋的。 图12: 800 Mbps DDR2的数据信号仿真眼图(红) 和 实测眼图 (蓝)   11. 结论   本文,针对DDR2/DDR3的设计,SI和PI的各种相关因素都做了全面的介绍。对于在4层板里设计800 Mbps的DDR2和DDR3是可行的,但是对于DDR3-1600 Mbps是具有很大的挑战性。
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