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VASP计算能带

2010-12-29 4页 doc 34KB 378阅读

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VASP计算能带VASP计算能带 量子化学网版权所有 http://www.quantumchemistry.net/Experience/CommonSoftwares/VASP/ElectronicCalc/200602/1043.html VASP Version : 4.6 在此文中,我将用硅晶体作为实例,来说明如何用VASP4.6来计算固体的能带结构。首先我们要了解晶体硅的结构,它是两个嵌套在一起的FCC布拉菲晶格,相对的位置为 (a/4,a/4,a/4), 其中a=5.4A是大的正方晶格的晶格常数。在计算中,我们采用FCC的原胞,...
VASP计算能带
VASP计算能带 量子化学网版权所有 http://www.quantumchemistry.net/Experience/CommonSoftwares/VASP/ElectronicCalc/200602/1043.html VASP Version : 4.6 在此文中,我将用硅晶体作为实例,来说明如何用VASP4.6来计算固体的能带结构。首先我们要了解晶体硅的结构,它是两个嵌套在一起的FCC布拉菲晶格,相对的位置为 (a/4,a/4,a/4), 其中a=5.4A是大的正方晶格的晶格常数。在计算中,我们采用FCC的原胞,每个原胞里有两个硅原子。 VASP计算需要以下的四个文件:INCAR(控制参数), KPOINTS(倒空间撒点), POSCAR(原子坐标), POTCAR(赝势文件) 为了计算能带结构,我们首先要进行一次自洽计算,得到体系正确的基态电子密度。然后固定此电荷分布,对于选定的特殊的K点进一步进行非自洽的能带计算。 有了需要的K点的能量本征值,也就得到了我们所需要的能带。 步骤一.—自洽计算产生正确的基态电子密度: 以下是用到的各个文件样本: INCAR 文件: SYSTEM = Si  Startparameter for this run:    NWRITE =      2;   LPETIM=F    write-flag & timer    PREC   = medium    medium, high low    ISTART =      0    job   : 0-new  1-cont  2-samecut    ICHARG =      2   charge: 1-file 2-atom 10-const    ISPIN  =      1    spin polarized calculation?  Electronic Relaxation 1    NELM   =     90;   NELMIN=  8; NELMDL= 10     # of ELM steps    EDIFF  = 0.1E-03   stopping-criterion for ELM    LREAL  = .FALSE.     real-space projection  Ionic relaxation    EDIFFG = 0.1E-02   stopping-criterion for IOM    NSW    =      0    number of steps for IOM    IBRION =      2    ionic relax: 0-MD 1-quasi-New 2-CG    ISIF   =      2    stress and relaxation    POTIM  =   0.10    time-step for ionic-motion    TEIN   =    0.0    initial temperature    TEBEG  =    0.0;   TEEND  =   0.0 temperature during run  DOS related values:    ISMEAR =    0 ;   SIGMA  =   0.10  broadening in eV -4-tet -1-fermi 0-gaus  Electronic relaxation 2 (details)  Write flags    LWAVE  =      T    write WAVECAR    LCHARG =      T    write CHGCAR VASP给INCAR文件中的很多参数都设置了默认值,所以如果你对参数不熟悉,可以直接用默认的参数值。比如在这个例子中,下面的比较简单的INCAR 文件也可以完成任务: SYSTEM = Si  Startparameter for this run:    PREC   = medium    medium, high low    ISTART =      0    job   : 0-new  1-cont  2-samecut    ICHARG =      2   charge: 1-file 2-atom 10-const    EDIFF  = 0.1E-03   stopping-criterion for ELM    NSW    =      0    number of steps for IOM    IBRION =      2    ionic relax: 0-MD 1-quasi-New 2-CG    ISIF   =      2    stress and relaxation KPOINT文件: 我们采用自动的Monkhorst-Pack K点撒取方式。对于类似于硅晶体的半导体材料,通常 4x4x4 的K点网格就够了。 Monkhorst Pack 0 Monkhorst Pack 4  4   4 0  0   0 POSCAR文件: 我们采用FCC原胞,所以每个原胞包含两个硅原子 Si 5.38936 0.5 0.5 0.0 0.0 0.5 0.5 0.5 0.0 0.5 2 Cartesian      0.0000000000000     0.00000000000     0.0000000000000      0.2500000000000     0.25000000000     0.2500000000000 POTCAR文件 不需要进行任何改动,只需将POTCAR文件从正确的赝势库里拷贝过来就行了。 运行VASP进行完这一步的计算后,我们应该得到了自洽的电荷分布-CHGCAR文件。为了得到能带结构,我们需要对指定的K点进行非自洽的计算,然后将信息汇总,得到E-K的能带关系。 步骤二.—在固定电子密度的情况下,得到选取K点的能量本征值。 我们需要修改一下INCAR文件中的部分参数    ICHARG =     11   charge: 1-file 2-atom 10-const ICHARG=11 示从CHGCAR中读入电荷分布,并且在计算中保持不变。 我们还需要更改KPOINT文件,来指定我们感兴趣的某些高对称性的K点。在VASP4.6中,这个可以通过Line mode来轻易实现. k-points along high symmetry lines  10  ! 10 intersections Line-mode rec   0   0   0   ! gamma   0.5 0.5 0   ! X   0.0 0.0 0   ! gamma   0.5 0.5 0.5  ! L 通过指定Line-mode, VASP会自动在起点和终点之间插入指定的K点数,比如上面的文件就是指定VASP计算沿着Gamma点到X点,以及Gamma点到L点的K点,每个方向上各取10个K点。下图是硅晶体的第一布里渊区,标出了一些高对称性点。   作如上修改后,我们再次运行VASP,然后我们就可以从OUTCAR文件或者EIGENVAL文件里得到需要的每个K点的能级信息。 比如说EIGENVAL文件会有类似以下的输出   0.5555556E-01  0.5555556E-01  0.0000000E+00  0.5000000E-01    1       -6.8356    2        4.8911    3        5.0077    4        5.0079    5        7.6438    6        8.0693    7        8.0694    8        9.0057 第一行就是K点的倒空间的坐标,接下来的8行告诉我们在那个K点上的8个能级。你可以通过EXCEL或者ORIGIN之类的画图软件可视化结果。由于现在手头上已经有了每个K点的能级信息,则将这些K点的能级连接起来就是你所需要的能带图了。下图是用以上步骤算得的硅的能带图。我们可以看到硅并非是直接能隙的材料。同时,由于我们用了LDA,所以硅的能隙和实验相比大大被低估了(实验为1.12eV,计算值~0.6eV)。
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