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直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验

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直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验 直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验 单尼娜,吕长志,马卫东,李志国,郭春生 (北京工业大学电子信息与控制工程学院可靠性研究室,北京100124) 摘要:基于恒定电应力温度斜坡法(CETRM),对工作于直流状态和脉冲状态下的VDMOS功 率器件进行可靠性研究,考察了器件阈值电压、跨导以及导通电阻的退化情况,得出在两种工作 状态下均是跨导为失效敏感参数。在直流工作状态下,VDMOS失效激活能为0 57 ~ 0 68 eV,寿 命为7 97 × 105 ~ 1 15 × 107 h;在脉冲工作状态下,VDMOS失效激...
直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验
直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验 单尼娜,吕长志,马卫东,李志国,郭春生 (北京工业大学电子信息与控制工程学院可靠性研究室,北京100124) 摘要:基于恒定电应力温度斜坡法(CETRM),对工作于直流状态和脉冲状态下的VDMOS功 率器件进行可靠性研究,考察了器件阈值电压、跨导以及导通电阻的退化情况,得出在两种工作 状态下均是跨导为失效敏感参数。在直流工作状态下,VDMOS失效激活能为0 57 ~ 0 68 eV,寿 命为7 97 × 105 ~ 1 15 × 107 h;在脉冲工作状态下,VDMOS失效激活能为0 66 ~ 0 7 eV,寿命为 4 3 × 105 ~ 4 6 × 106 h。对跨导的退化机理进行了。 关键词:纵向双扩散金属氧化物半导体;激活能;寿命;恒定电应力温度斜坡法 中图分类号:TN3124;TN306 文献标识码:A 文章编号:1003353X (2010)02017204 Reliability Testing of Power VDMOS Transistors in Switching State and Direct Current State Shan Nina,Lü Changzhi,Ma Weidong,Li Zhiguo,Guo Chunsheng (Reliability Lab .,College of Electronic Information and Control Engineering, Beijing University of Technology,Beijing 100124,China) Abstract:The reliability and failure mechanism of power device VDMOSFET in switching state and direct current state was evaluated based on the method of CETRM (constant electrical stress and temperature ramp stress method). The degradation situation of parameters such as VTH, gm, R onwas studied . It shows that the gm is the failure sensitive parameter in both of the different states . The results show that the activation energy range of the VDMOS in direct current state is 0 57 to 0 68 eV and the expectation of life range is 7 97 × 105 ~ 1 15 × 107 h;the activation energy range of the VDMOS in switching state is 0 66 to 0 7 eV and the expectation of life range is 4 3 × 105 ~ 4 6 × 106 h . And the degradation mechanism of gm is analyzed . Key words:VDMOS;activation energy;life;CETRM EEACC:0170N;0170J 0 引言 VDMOS场效应功率晶体管是一种电压控制型电 流垂直流动的双扩散MOS器件。它具有高输入阻 抗、低驱动功率、高开关速度、负温度系数等优点, 并且没有双极型功率晶体管的二次击穿问题,安全 工作区大。因此,VDMOS是一种应用广泛的器件, 无论是开关应用还是线性应用均有很好的效果。 目前对恒定电应力、序进温度应力下VDMOS 性能及参数退化的研究文献较少。本文通过恒定电 应力、序进温度应力,即恒定电应力温度斜坡法 (CETRM)加速寿命试验方法[1]考察了直流工作状 态和脉冲工作状态下VDMOS性能及参数的退化, 基于其参数退化曲线推导出VDMOS的寿命,并对 两组试验进行分析比较。 1 试验 1 1 工作于直流状态下的VDMOS试验 试验选择TO204AA封装n沟道VDMOS场效应 晶体管6只,编号1 # ~ 6 # 。试验首先对样品在 300 ℃高温老化24 h,之后缓慢降至室温。高温老 化的目的是消除在以后的试验中温度对样品电参数 漂移的影响。 (1)电应力条件:原理图如图1所示,漏源电 流IDS = 0 8 A。(2)温度应力条件:温箱采用DESPATCH 900 櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶 doi:10 3969 / j  issn 1003353x 2010 02 019 172 半导体技术第35卷第2期 2010年2月 图1 工作于直流状态下的电应力偏置系统原理框图 Fig 1 Sketch map of the test system in direct current state 系列924E,其整个温箱内部控温精度为± 0 3 ℃, 温箱的数字显示区的数字显示精度为± 0 1 ℃。经 红外热像仪测量,确定器件芯片与管壳的温差为 25 ℃。试验测量,管壳温度(T j)与温箱温度(T1)符合一个线性关系: T j = (1 04 × T1 - 0 44)℃。故器件的自升温为红外测试的结到壳的 温差和壳与温箱的温差的总和。在各温度点,ΔT = (25 + 0 04 × T1 - 0 44)℃。温箱初始温度T0为 71 ℃,升温速率β= 4 ℃ / 24 h。(3)测试条件:测试前,在正常大气条件下恢 复2 ~ 4 h。测量输出特性曲线、转移特性曲线、导 通电阻,其关键参数阈值电压V th、跨导gm 可从输出特性曲线或者转移特性曲线中求取。 (4)失效判据:处理本试验的数据,可得到多 个参数的退化曲线,选取最先达到失效判据的参 数,作为失效敏感参数。VDMOS失效判据为:ΔM > 20% M0。 1 2 工作于脉冲状态下的VDMOS试验 试验选择TO204AA封装n沟道VDMOS场效应 晶体管6只,编号7 # ~ 12 # 。同样首先对样品在 300 ℃高温老化24 h。 (1)电应力条件:原理图如图2所示。①栅极 施加电压VGS条件: Vpp = 7 V,频率为125 kHz,占空比为25%的脉冲电压,②漏源电流IDS = 1 5 A。 图2 工作于脉冲状态下的电应力偏置系统原理框图 Fig 2 Sketch map of the test system in switching state (2)温度应力条件:试验采用的温度控制系统 是由欧陆3504温控仪、周波数调功控制模块、固 态继电器、热电偶,温度补偿导线和加热铜块组成 的加热平台,控温精度在± 0 5 ℃以内。加热平台 初始温度T0设为75 ℃,升温速率β= 5 ℃ / 24 h。经红外热像仪测量,确定器件自升温为30 ℃。 (3)测试条件:为缩短试验周期,本试验采用 在线测量的方法测量样品的电学参数。每隔10 ℃ 测试一次,断电恒温测量。 测试中,器件参数退化一方面是施加的温度应 力和电应力造成的;另一方面是由器件本身的温度 特性引起变化。因而,需要在正式试验前,测量样 品的温度特性曲线,之后将正式试验值与其比较, 得出有效退化量。从75 ℃开始,每30 min升高 10 ℃并保持30 min,随后每隔10 ℃测试样品的电 学参数,得到样品的温度特性曲线。 (4)失效判据:同样选取最先达到失效判据的 参数,作为失效敏感参数。VDMOS 失效判据为 M - M[T(t)] M[T(t)] > 20%。式中:M为试验过程中测得 的跨导值;M[T(t)]对应温度特性曲线上各温度点 的值。 1 3 试验电路图 试验系统中采用TRADEX MPS302直流稳压稳 流电源提供漏源电压,KEITHLEY 2400数字电源经 电位器调节提供栅源电压。同时,在电路中使用 5Ω/ 10 W的电阻RL作为限流电阻。脉冲试验电应力偏置系统电路图如图2所示, 使用SG3524作为脉宽调制器(PWM)芯片电路提供 栅源脉冲电压。通过滑动变阻器R1、电阻R t和电容 C t,调节输出脉冲电压值、频率及占空比以满足实验 。VDMOS的漏端同样使用5Ω/ 10 W的电阻作为限流电阻。 2 试验结果及分析 2 1 试验结果 在直流工作试验中,VDMOS跨导的退化达到失 效判据20%时,阈值电压退化为2 3%,导通电阻退 化为9 5%。可见,跨导的退化首先达到了失效判 据。可以得出,在直流工作状态下,gm 退化是功率 VDMOS的主要失效模式,因此以gm 的退化作为失效判据。 由脉冲工作试验结果看出,在脉冲工作试验中, VDMOS跨导的退化达到失效判据20%时,阈值电压退 单尼娜等:直流和脉冲工作的VDMOS 櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶 可靠性试验 February 2010 Semiconductor Technology Vol 35 No2 173 化最大为194%,导通电阻退化为10%。因此,同样可 以得出工作于脉冲状态下的VDMOS,gm退化是主要失效模式,以gm的退化作为失效判据。上述试验的跨导典型退化曲线如图3和图4所示。 图3 直流状态下VDMOS 5 #样品跨导退化曲线 Fig 3 Degradation curve of 5 # gm in direct current state 图4 脉冲状态下VDMOS 8 #样品跨导退化曲线 Fig 4 Degradation curve of 8 # gm in switching state 2 2 试验分析 跨导退化分析:跨导是征VDMOS器件特征的 重要参数,它的性能与氧化层界面附近缺陷的散射 作用对沟道载流子有效迁移率的影响有关。氧化层 界面陷阱电荷是沟道内可动载流子的散射中心,这 种散射降低了载流子的表面迁移率,从而使跨导下 降[2]。 在直流试验和脉冲试验中,栅极加正偏压使得 VDMOS出现反型并且费密能级高于受主界面陷阱, 电子填充受主陷阱呈负电性,界面陷阱出现负的附 加电荷。温度会引起费密能级EF在禁带中相对位置的变化。当费密能级在禁带中扫过界面陷阱能级 时,也将改变界面陷阱中电子的填充情况[3]。随着 温度的升高,费密能级向禁带中央移动,使得更多的 电子填充界面陷阱。 基于上述分析,加正偏压以及升高温度均使得 VDMOS界面陷阱电荷增加,即增加了沟道内可动载 流子散射中心,降低了器件的跨导。 3 寿命预计 CETRM理论模型为[1] dM d t = Aj nVmexp(- EkT ) (1) 式中:M 为电子器件的失效敏感参数; t 为试验时 间;dM / d t 为参数的退化速率; A 为常数; j 为电 流密度; V为电压; n 为电流密度幂指数因子; m 为电压幂指数因子; Q为失效激活能; k 为波尔兹 曼常数; T为试验温度。 3 1 失效机理一致性判定 加速寿命试验的理想情况应该是高应力水平作 用下的器件退化规律与正常应力水平下的退化规律 相同,唯一不同的是时间加速。因此,加速试验的 前提是在加速过程中保持失效机理的一致性[4]。 以5 #样品和8 #样品为例,根据文献[5]中 判定失效机理一致性的方法,得出在直流工作试验 中,5 #样品在79 ~ 183 ℃失效机理保持一致(见 图5)。同样的方法可以得出,在脉冲工作试验中, 8 #样品从75 ℃至205 ℃试验结束,失效机理未发 生改变(见图6)。 图5 直流状态下VDMOS 5 #样品失效机理一致性判别 Fig 5 Failuremechanism identification of 5 # in direct current state 图6 脉冲状态下VDMOS 8 #样品失效机理一致性判别 Fig6 Failuremechanism identification of 8 # in switching state 单尼娜等:直流和脉冲工作的VDMOS 櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶 可靠性试验 174 半导体技术第35卷第2期 2010年2月 3 2 失效激活能 同一失效机理对应的失效激活能是相同的。理 想的加速寿命试验只是加速器件失效敏感参数的退 化,而不改变其失效机理。因此,如果加速过程中 试验样品的失效机理不发生改变,那么其对应的失 效激活能Q在此温度范围内也将是恒定的。 根据文献[67]中评价半导体器件失效激活 能的办法,可以得出,在失效机理保持一致的范围 内,工作于直流状态下的VDMOS样品失效激活能 为0 57 ~ 0 68 eV;工作于脉冲状态下的VDMOS样 品失效激活能为0 66 ~ 0 7 eV。 3 3 寿命的计算 根据W. B . Nelson[8]提出的积累损伤模型, 器件的剩余寿命仅仅与器件当时的损伤情况和将要 对其施加的应力条件有关,而与其损伤是如何积累 的无关。并且,加速条件下和正常工作条件下,器 件的失效判据是一样的,即达到失效时器件的损伤 累积量是相等的,所不同的仅仅是加速系数不同, 即参数的退化速率不同,因此 ΔM =ΔM0 (2)式中:ΔM 为试验条件下在失效机理保持一致的温度范围内敏感参数的退化量;ΔM0为工作条件T0下的敏感参数的退化量。 其中 ΔM = t 0 AjnVmexp(- QkT)d∫ t = 1 β T2 T1 AjnVmexp(- QkT)d∫ T (3) ΔM0 = t 0 AjnVmexp(- QkT0)d∫ t = AjnVmexp(- QkT0)t (4)将式(3)和(4)带入式(2)并整理可得外 推常温下的工作寿命的公式 t = T2 T1 exp(- QkT)d∫ T βexp(- QkT0) (5) 当敏感参数的退化量ΔM 达到失效判据时,(5)式中的t 即为常温T0下试验样品的寿命。在室温27 ℃时,直流工作状态下VDMOS 寿命范围为 7 97 × 105 ~ 1 15 × 107 h;脉冲工作状态下VDMOS 寿命范围为4 3 × 105 ~ 4 6 × 106 h。 4 结论 对功率VDMOS在两种工作状态下进行加速寿 命试验。结果表明,在直流工作试验中,VDMOS 跨导的退化达到失效判据20%时,阈值电压退化 为2 3%,导通电阻退化为9 5%。在脉冲工作试 验中,VDMOS 跨导的退化达到失效判据20%时, 阈值电压退化为1 94%,导通电阻退化为10%。 因此,在两种工作状态下,均以跨导gm 作为 VDMOS的失效敏感参数。对于本试验所采用的 VDMOS样品,根据上述试验结果得出:直流工作 状态下与脉冲工作状态下器件的失效机理相同;两 种工作状态下,失效激活能范围分别为[0 57 eV, 0 68 eV]和[0 66 eV,0 7 eV],其失效激活能范 围基本一致;寿命范围分别为[7 97 × 105 h, 1 15 × 107 h]和[4 3 × 105 h, 4 6 × 106 h],器件 的寿命相近。VDMOS跨导退化的原因为,正偏压 以及升高温度的条件下,VDMOS界面陷阱电荷增 加,即增加了沟道内可动载流子散射中心,使得器 件的跨导退化。 参考文献: [1]郭春生.半导体器件加速寿命新方法的研究[D].北京: 北京工业大学,2006 . [2]高光勃,李学信.半导体器件可靠性物理[M].北京:科 学出版社,1987:230231 . [3]郭维廉.硅二氧化硅界面物理[M].北京:国防工业出版 社,1989:8286 . [4]HU J M,BARKER D,DASGUPTA A,et al . Role of failure mechanism identification in accelerated testing[J]. J of the IES,1993(2123):3945 . [5]郭春生,谢雪松,马卫东,等.加速试验中失效机理一致 性的判别方法[J].半导体学报,2006,27(3):560563 . [6]郭春生,谢雪松,马卫东,等.快速评价半导体器件失效 激活能的方法[J].半导体技术,2006,31(2):122126 . [7]PASCO R W,SCHWARZ J A . Temperatureramp resistance analysis to characterize electromigration [J]. SSE,1983,26 (5):445452 . [8]NELSON W B . Accelerated life testingstepstress models and data analysis[J]. IEEE Trans Reliab,1980,29(1):103108 . (收稿日期:20090810) 作者简介: 单尼娜(1983—),女,山西阳泉人,硕士研 究生,研究方向为微电子器件及可靠性; 吕长志(1950—),男,北京人,研究员,博士生导师,研究方向为 微电子器件及可靠性。 单尼娜等:直流和脉冲工作的VDMOS 櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶櫶 可靠性试验 February 2010 Semiconductor Technology Vol 35 No2 175 直流和脉冲工作的VDMOS可靠性试验 作者: 单尼娜, 吕长志, 马卫东, 李志国, 郭春生, Shan Nina, Lü Changzhi, Ma Weidong, Li Zhiguo, Guo Chunsheng 作者单位: 北京工业大学,电子信息与控制工程学院,可靠性研究室,北京,100124 刊名: 半导体技术 英文刊名: SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY 年,卷(期): 2010,35(2) 被引用次数: 0次 参考文献(8条) 1.郭春生 半导体器件加速寿命新方法的研究 2006 2.高光勃.李学信 半导体器件可靠性物理 1987 3.郭维廉 硅-二氧化硅界面物理 1989 4.HU J M.BARKER D.DASGUPTA A Role of failuremechanism identification in accelerated testing 1993(21- 23) 5.郭春生.谢雪松.马卫东.程尧海.李志国 加速试验中失效机理一致性的判别方法[期刊论文]-半导体学报 2006(3) 6.郭春生.谢雪松.马卫东.李志国.程尧海 快速评价半导体器件失效激活能的方法[期刊论文]-半导体技术 2006(2) 7.PASCO R W.SCHWARZ J A Temperature-romp resistance analysis to characterize electromigration 1983(5) 8.NELSON W B Accelerated life testing-step-stress models and data analysis 1980(1) 本文链接:http://d.wanfangdata.com.cn/Periodical_bdtjs201002019.aspx 授权使用:广东工业大学图书馆(gdgydxtsg),授权号:12c503e8-d10a-411d-b857-9e2b0127efaa 下载时间:2010年11月11日
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